금속불순물 제거를 위한 UV/ozone과 HF 세정연구

이원준 ,  전형탁

한국재료학회지

1996 .01

The Study on the Cu Impurity Removal Depending on the Cleaning Splits of ( UV/O3 + HF ) and ( H2O2 + HF )

최백일 ,  이원준 ,  안태항 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

The Study on the Metallic Impurity Removal With Utilizing UV / Ozone and HF Cleaning

이원준 ,  최형복 ,  전형탁

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

HF-last Cleaning에서 SC-1 step과 $UV/O_3$ step이 gate 산화막에 미치는 영향

최형복 ,  류근걸 ,  정상돈 외 1명

한국재료학회지

1996 .01

건식세정에 의한 Si 표면의 금속불순물 제거에 관한 연구

박웅 ,  이종무 ,  안태항 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Si기판 세정조건에 따른 산화막의 특성연구

전형탁 ,  강응렬 ,  조윤성

한국재료학회지

1994 .01

절연가스 내에 생성되는 H₂O 및 HF의 제거

한희준 ,  최선용 ,  김희준 외 1명

한국에너지학회 학술발표회

2010 .04

STUDIES ON FABRICATION TECHNIQUES OF SUB-0.4μm T-GATE AND Γ-GATE STRUCTURES USING UV LITHOGRAPHY

Il Hyeong Lee ,  Sung Soo Kim ,  Yeon Sik Chae 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Hf 조성변화에 따른 Fe-Hf-N 자성박막의 특성

맹기호 ,  이진혁 ,  강계명 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

UV 조사와 $NF_3/H_2$를 사용한 웨이퍼 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 공정 조건의 영향

권성구 ,  김도현

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

불산-오존-희석 암모니아수 세정에 의한 실리콘 웨이퍼 표면의 미세입자 제거

이건호 ,  배소익

화학공학

2007 .01

산세에 의한 금속급 실리콘의 금속 불순물 제거

김준수

한국에너지학회 학술발표회

2015 .04

UV-oxidative Treatment of Bio-refractory Organic Halogens In Leachate: Comparison between UV/O3, UV/H2O2, and UV/H2O2/O3 Processes : Comparison between UV/O₃, UV/H₂O₂, and UV/H₂O₂/O₃ Processes

Tahi ,  Im ,  an Qu 외 2명

Environmental Engineering Research

2006 .04

불순물 농도에 따라 산화막 성장률의 차이를 이용한 자기 정렬된 금속 게이트 CMOS 구조 ( A Self-Aligned Metal Gate COMS Structure Utilizing The Oxidation Rate Variation on The Impurity Concentration )

최진호 ,  고요환 ,  김충기

대한전자공학회 학술대회

1988 .01

해상 HF 디지털 무선통신 방식 비교 연구

김정창

한국방송미디어공학회 학술발표대회 논문집

2016 .06

$\textrm{SiO}_2$기판 위에 증착된 Co/Hf 이중층의 계면반응

권영재 ,  이종무 ,  배대록 외 1명

한국재료학회지

1998 .01

H₂O₂/UV 공정의 유기물 제거 모사 특성

간은성 ,  윤창한 ,  이경혁 외 1명

대한환경공학회 학술발표논문집

1998 .12

희석된 불산 내의 오존의 거동과 세정 효과

엄대홍 ,  박진우 ,  박진구

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

UV를 이용한 수중 의약품 성분의 제거에 관한 연구

김일호 ,  타나카히로아키 ,  야마시타나오유키 외 3명

대한환경공학회 학술발표논문집

2006 .12