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학술저널
저자정보
정찬회 (동아대학교 신소재공학과) 이준희 (동아대학교 신소재공학과) 김순국 (동아대학교 신소재공학과) 김명한 (충북대학교 재료공학과) 유재근 (호서대학교 신소재공학) 김승언 (한국기계연구원)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제16권 제4호
발행연도
2006.1
수록면
264 - 271 (8page)

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RF sputtering process was applied to produce thin hydroxyapatite(HAp) films on Ti-6Al-4V alloy substrates. The effects of different heat treatment conditions on the chemical composites between HAp thin films and Ti-6Al-4V alloy substrates were studied. After deposition, the HAp thin films were heat treated for 1h at $400^{\circ}C,\;600^{\circ}C\;and\;800^{\circ}C$ under the atmosphere, and analyzed O/M, FESEM-EDX and ESCA, respectively. Experimental results represented that interface of HAp thin films and Ti-6Al-4V alloy substrates was composed Ti-OH, TiO, TiN, $Al_2O_3,\;V_2O_3,\;VO_2$. pyrophosphate and decreased carbide followed by the increase of heat treatment temperature.
#Hydroxyapatite #Ti-6Al-4V Alloy #RF Sputtering #Heat Treatment #ESCA

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