The Study on the Cu Impurity Removal Depending on the Cleaning Splits of ( UV/O3 + HF ) and ( H2O2 + HF )

최백일 ,  이원준 ,  안태항 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

$UV/O_3$과 HF 세정이 금속불순물 제거와 gate 산화막 특성에 미치는 영향

이원준 ,  전형탁

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

불산-오존-희석 암모니아수 세정에 의한 실리콘 웨이퍼 표면의 미세입자 제거

이건호 ,  배소익

화학공학

2007 .01

UV / ozone을 이용한 실리콘 표면의 Dry Cleaning Process 연구

이경우 ,  황병철 ,  천희곤 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

금속불순물 제거를 위한 UV/ozone과 HF 세정연구

이원준 ,  전형탁

한국재료학회지

1996 .01

UV/Ozone 처리에 따른 그래핀/구리 계면의 접합력 변화에 관한 연구

서정민 ,  김택수

대한기계학회 춘추학술대회

2013 .05

Optical Ozone Monitor Using UV Source

Wan-Young Chung

제어로봇시스템학회 국제학술대회 논문집

2003 .10

UV/Ozone 복합 살균기의 살균력 개선 연구

지정은 ,  양원균 ,  박은철 외 2명

한국표면공학회지

2008 .04

Removal of COD and Color from Anaerobic Digestion Effluent of Livestock Wastewater by Advanced Oxidation Using Microbubbled Ozone

이인규 ,  이은영 ,  이혜정 외 1명

공업화학

2011 .01

절연가스 내에 생성되는 H₂O 및 HF의 제거

한희준 ,  최선용 ,  김희준 외 1명

한국에너지학회 학술발표회

2010 .04

기계적 합금화 공정에 의한 Hf계 비정질 분말의 미세변형거동 관찰

김송이 ,  이아영 ,  차은지 외 5명

한국분말야금학회지

2018 .01

Measurement Technique of Ozone Density by Using UV Sensor System

T ,  ung ,  Nguyen Huu 외 4명

전기전자학회논문지

2015 .03

Hf 조성변화에 따른 Fe-Hf-N 자성박막의 특성

맹기호 ,  이진혁 ,  강계명 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

오존과 초음파를 이용한 실리콘 웨이퍼의 Post Sliced Cleaning

최은석 ,  배소익

한국재료학회지

2006 .01

UV-oxidative Treatment of Bio-refractory Organic Halogens In Leachate: Comparison between UV/O3, UV/H2O2, and UV/H2O2/O3 Processes : Comparison between UV/O₃, UV/H₂O₂, and UV/H₂O₂/O₃ Processes

Tahi ,  Im ,  an Qu 외 2명

Environmental Engineering Research

2006 .04

Ozone, UV 및 전자선의 대장균 살균효율 및 경제성 비교

김태훈 ,  이오미 ,  남윤구 외 2명

대한환경공학회 학술발표논문집

2008 .12

Surface Composition Change of UV/Ozone Modified Polypropylene

김재익 ,  류승훈

Elastomers and composites

2002 .01

방전간극변화가 오존생성특성에 미치는 영향

이상근 ,  전병준 ,  박용권 외 4명

한국조명·전기설비학회 학술대회논문집

2001 .11

Ozone/UV공정에 의한 Bromate의 제어 및 제약물질의 처리

박상연 ,  오병수 ,  장하영 외 4명

대한환경공학회 학술발표논문집

2006 .12

실리콘 웨이퍼 세정을 위한 오존의 거동에 관한 연구

이건호 ,  김인정 ,  배소익

반도체및디스플레이장비학회지

2005 .01