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Passivation Application of the RPECVD Si3N4 Films with Improved Electrical Properties
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Deposition of Silicon Films at Low Temperature with Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ( RPECVD )
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Kink Effect Free Si ICL based Si3N4 passivation of InP-HEMT by RPECVD
ITC-CSCC :International Technical Conference on Circuits Systems, Computers and Communications
2009 .07
저유전 SiCOH/$C_xH_y$ 이중상 박막의 원거리 플라즈마 화학증착
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
규소화학의 산업적 응용
시멘트
1987 .01
Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
고 결정질 산화티타늄-산화규소 하이브리드 박막 제조 방법과 광촉매 특성에 관한 연구
한국에너지기후변화학회 학술대회
2018 .05
고규소 A1합금 제조기술 전망
기계와 재료
1997 .01
산화규소 스페이서에 대한 티타늄과 코발트박막의 안정성
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
DIPAS(디이소프로필아미노 실란; Diisoprophylamino Silane) 소스를 이용한 Si 박막 형성 및 특성
한국정보기술학회논문지
2014 .01
고밀도 플라즈마에서 규소산화막을 마스크로 이용한 백금박막의 패터닝 ( Patterning of Pt thin films using SiO2 mask in a high density plasma )
전자공학회논문지-D
1997 .03
규소기판 구조에 따른 전송선 특성분석 ( Analysis of Transmission Line Characteristics )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
아크로를 이용한 실리콘 환원 반응의 열역학적 해석
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2010 .06
용융 Al합금의 고온산화에 미치는 $SiO_2$량의 영향
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
저온과학 (중) -초저온의 세계-
특협
1980 .01
저온과학 (하) -초저온의 세계-
특협
1980 .01
저온과학 (상) -초저온의 세계-
특협
1980 .01
다공질 실리콘을 이용한 저온 산화막의제조
한국재료학회지
1996 .01
규소 나노막대 어레이를 이용한 리튬이온전지의 규소전극의 리튬화 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2016 .05
N형 비정질 규소 박막과 P형 결정질 규소의 이종정합형 태양전지의 제작 및 특성 ( Fabrication and Characteristics of Heterojunction ( a-Si : H / c-Si ) )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
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