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자료유형
학술대회자료
저자정보
김진태 (한국기술교육대학교 메카트로닉스공학과) 김광선 ([주]K.C.Tech) 이승희 ([주]K.C.Tech) 정은미 ([주]K.C.Tech)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2007년도 춘계학술대회
발행연도
2007.1
수록면
174 - 178 (5page)

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The cleaning process to remove small particles, ions, and other polluted sources is one of the major parts in the recent semiconductor industry because it can cause fatal errors on the quality of the final products. According to the other reports, the major factors of bath's fluid motion are the cleaning method, nozzle, the geometry (of bath, guide and wafer), and the position (of guide and wafer). So to enhance cleaning efficiency in the bath, these factors must be controlled. The purpose of this study is to analyze and visualize fluid motion in the cleaning bath as basic data for designing the nozzle system and finding the process control parameters. For that, we used the general CFD code FLUENT.
#Cleaning process #Overflow #Nozzle Design #Bath Simulation

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