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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
J. K. Yoon (SFC) Sang Heon Lee (Sunmoon University)
저널정보
대한전기학회 Journal of Electrical Engineering & Technology Journal of Electrical Engineering & Technology Vol.10 No.1
발행연도
2015.1
수록면
295 - 298 (4page)

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Ozone micro-bubble cleaning system was designed, and made to develop a unique technique to clean wafers by using ozone micro-bubbles. The ozone micro-bubble cleaning system consisted of loading, cleaning, rinsing, drying and un-loading zones, respectively. In case of the cleaning the silicon wafers of a solar cell, more than 99 % of cleaning efficiency was obtained by dipping the wafers at 10 ppm of ozone for 10 minutes. Both of long cleaning time and high ozone concentration in the wet-solution with ozone micro-bubbles reduced cleaning efficiency because of the re-sorption of debris. The cleaning technique by ozone micro-bubbles can be also applied to various wafers for an ingot and LED as an eco-friendly method.
#Ozone micro-bubble #Wafer #Wet-solution #Eco-friendly method

목차

Abstract
1. Introduction
2. Experimental Method
3. Results and Discussion
4. Conclusions
References

참고문헌 (7)

참고문헌 신청
1. [단행본] - W. Kern / 1993 / Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology / Noyes Publication : 383 ~ 391 google schola 2. [학술지(정기간행물)] - J Wei / 1998 / Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing : 496 ~ 504 google schola 3. [학술지(정기간행물)] - S Nelson / 1999 / Ozonated Water for Wafer Cleaning and Photoresist Removal / Solid State Technology : 107 ~ 112 google schola 4. [단행본] - / 1999 / Lange’s Handbook of Chemistry / McGraw Hill, Inc google schola 5. [단행본] - Rice Aharan Netzer / 1984 / Handbook of Ozone Technology Vol. II / Ann Arbor Science Book google schola

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