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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
윤종국 (엠파워) 구경완 (호서대)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제61권 제1호
발행연도
2012.1
수록면
94 - 98 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2012

신개념 태양전지 세정용 오존마이크로 버블에 관한 연구
윤종국 ,  구경완 전기학회논문지 2012.01 학술저널

2011

오존 마이크로 버블을 이용한 태양전지 웨이퍼의 세정
윤종국 ,  김영균 ,  최현철 외 1명 대한전기학회 학술대회 논문집 2011.04 학술대회자료

초록· 키워드

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The behavior of ozone micro bubble cleaning system was investigated to evaluate the solution as a new method of solar cell wafer cleaning in comparison with former conventional RCA cleaning. We have developed the ozone dissolution system in the ozonated water for more efficient cleaning conditions. The optimized cleaning conditions for solar cell wafer process were 10 ppm of ozone concentration and 12 minutes in cleaning periods, respectively. We have confirmed the cleaning reliability and cell efficiencies after ozone micro bubble cleaning. Using this new cleaning technology, it was possible to obtain higher efficiency, higher productivity, and fast tact time for applying cleaning in the fields on bare ingot wafer, LED wafers as well as the solar cell wafer.
#OMB(Ozone Micro Bubble) #Wafer cleaning #Solar cell #Cavitation

목차

Abstract
1. 서론
2. 세정원리 및 이론
3. 마이크로 버블 생성 시스템
4. 오존세정 실험 및 분석
5. 결론
참고문헌

참고문헌 (12)

참고문헌 신청
W. Kern / 1993 / Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology / Noyes Publication :383~391 google schola J Wei / 1998 / Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing / The Electrochemical Society :496~504 google schola 윤종국 / 2011 / 오존마이크로버블을이용한 태양 전지 웨이퍼의 세정 / 2011년도 대한전기학회 전기설비부문 춘계학술대회 :74~77 dbpia S Nelson / 1999 / Ozonated Water for Wafer Cleaning and Photoresist Removal / Solid State Technology :107~112 google schola Rice Aharan Netzer / 1984 / Handbook of Ozone Technology Vol. II / Ann Arbor Scence Book google schola

이 논문의 저자 정보

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