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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
최헌종 (한국생산기술연구원 나노가공팀) 강은구 (한국생산기술연구원 나노가공팀) 이석우 (한국생산기술연구원 나노가공팀) 홍원표 (한국생산기술연구원 나노가공팀)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 발표 논문집
발행연도
2004.1
수록면
229 - 233 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2005

FIB를 이용한 마이크로 플라즈마 전극 개발
최헌종 ,  강은구 ,  이석우 외 1명 Journal of the Korean Society for Precision Engineering 2005.05 학술저널

2004

마이크로 플라즈마 전극가공을 위한 FIB 연구
최헌종 ,  강은구 ,  이석우 외 1명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2004.01 학술대회자료

초록· 키워드

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The application of focused ion beam (FIB) technology in micro/nano machining has become increasingly popular. Its use in micro/nano machining has advantages over contemporary photolithography or other micro/nano machining technologies such as small feature resolution, the ability to process without masks and being accommodating for a variety of materials and geometries. This paper was carried out some experiments of the micro plasma electrode fabrications using FIB. The sputtering of FIB has one major problem that is redeposited by sputtered material including $Ga^+$ ion source. Therefore we have verified the effect of the reposition by EDX. And the optimal condition is suggested to machine the micro plasma electrode.

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