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논문 기본 정보

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한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제21권 제3호
발행연도
2020.1
수록면
235 - 248 (14page)

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Oxide materials are one of the most advanced key technology in the thin film transistors (TFTs) for the high-end of device applications. Amorphous oxide semiconductors (AOSs) have leading technique for fl at panel display, active matrix organic light emitting display, active matrix liquid crystal display as well as thin fi lm electronic devices due to their excellent electrical characteristics, such as fi eld eff ect mobility ( μ FE ), subthreshold swing ( SS ) and threshold voltage ( V th ). Researchers from various fi elds have studied and considered ways to improve μ FE of AOS TFT, which has been studied for 16 years since 2004. Since 2004, mobility has been increased by using various methods, such as designing novel amorphous oxide materials, changing device structures, or adopting new post-treatment. The development of field eff ect mobility as well as the stability enhancement has been comprehensively reviewed in this report.

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