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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
구교욱 (Hoseo University) 김일중 (Hoseo University) 구경완 (Hoseo University)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제69권 제1호
발행연도
2020.1
수록면
211 - 216 (6page)
DOI
10.5370/KIEE.2020.69.1.211

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2020

대면적 초고주파 용량결합 플라즈마 전극의 전기장 균일도 개선
구교욱 기계공학과 2020.01 학위논문
대면적 초고주파 용량결합 플라즈마 전극의 전기장 균일도 개선
구교욱 ,  김일중 ,  구경완 전기학회논문지 2020.01 학술저널

2019

용량결합형 전극에서 가이드링에 의한 전기장 제어
구교욱 ,  이연 ,  구경완 전기학회논문지 2019.11 학술저널

초록· 키워드

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Large area PECVD processes have been evolved from HF to VHF technology. The larger the substrate and the higher the frequency, the stronger the standing wave is created at the center of the electrode. In this paper, a seven steps of design process were proposed to improve the standing waves by the shape deformation of electrode concave structure. Sheath thickness of 2 mm and cutting depth of 3.4 mm were simulated under the conditions of circular electrode of 1.1 m diameters, excitation frequency of 40.68MHz and gap of electrode 15mm at 4Torr. The non-uniformity was improved from 9.9%. to 1.1% adapting the processes. The same method was applied to the rectangular electrode to improve the electric field uniformity by cutting the upper electrode by making a mock up in proportion to the processing depth in the direction of the center axis using electric field analysis.
#CCP #Standing Wave #Edge Effect #VHF

목차

Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
References

참고문헌 (6)

참고문헌 신청
A. Perret / 2005 / Ion energy uniformity in high-frequency capacitive discharges / Applied Physics Letters 86:021501 google schola H. Curtins / 1987 / Influence of plasma excitation frequency fora-Si : H thin film deposition / Plasma Chemistry and Plasma Processing 7(3):267~273 google schola M. Heintze / 1993 / Analysis of high-rate a-Si : H deposition in a VHF plasma / Journal of Physics D : Applied Physics 26(10):1781~1786 google schola H. Schmidt / 2006 / Characterization of a high-density, large-area VHF plasma source google schola L. Sansonnens / 2003 / Shaped electrode and lens for a uniform radio-frequency capacitive plasma / Applied Physics Letters 82(2):182~184 google schola

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