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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2010.5
- 수록면
- 230 - 235 (6page)
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본 논문에서는 TCP-CVD를 이용하여 실리콘 산화막 형성에서 산화막의 특성에 영향을 미치는 전력, 가스 유량, 기판 바이어스 등의 공정조건에 따른 증착률과 굴절률을 제어하고자 한다. 그 결과 기판온도 300 [℃], SiH₄ : O₂=50 : 100 [sccm], TCP power 1 [㎾], 기판 바이어스 200 [W]를 인가한 조건에서 매우 우수한 균일도(＜1 [%]) 및 증착률(0.28 [㎛/min])과 굴절률 (1.4610-1.4621)을 나타내는 안정된 SiO₂ 산화박막을 제조할 수 있었다.
목차
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험방법
Ⅲ. 실험결과
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌
참고문헌 (5)
참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - 신동욱 / 2006 / Photoluminescence of Erbium-doped Silica-based Waveguide Film via Flame Hydrolysis Deposition and Aerosol Doping / Journal of Ceramic Processing Research 7 (4) : 379 ~ 383
2. [학술지(정기간행물)] - A. Amassian / 2006 / / Journal of Vacuum Science & Technology A 24 : 55 ~ 64
3. [학술지(정기간행물)] - K. R. Bera / 2009 / / Journal of Vacuum Science & Technology A 27 : 706 ~ 711
4. [학술지(정기간행물)] - 박상무 / 2008 / 펄스 레이저 증착법을 이용한 유기 박막의 제작 / 한국진공학회지 17 (5) : 455 ~ 460
5. [학술지(정기간행물)] - J. Y. Kim / 2003 / Electromigration Characteristics in PSG / SiO₂ Passivated Al-1% Si Thin Film Interconnections / Journal of Korean Vacuum Science & Technology 7 (2) : 39 ~ 44
2. [학술지(정기간행물)] - A. Amassian / 2006 / / Journal of Vacuum Science & Technology A 24 : 55 ~ 64
3. [학술지(정기간행물)] - K. R. Bera / 2009 / / Journal of Vacuum Science & Technology A 27 : 706 ~ 711
4. [학술지(정기간행물)] - 박상무 / 2008 / 펄스 레이저 증착법을 이용한 유기 박막의 제작 / 한국진공학회지 17 (5) : 455 ~ 460
5. [학술지(정기간행물)] - J. Y. Kim / 2003 / Electromigration Characteristics in PSG / SiO₂ Passivated Al-1% Si Thin Film Interconnections / Journal of Korean Vacuum Science & Technology 7 (2) : 39 ~ 44
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