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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제9권 제1호
발행연도
2000.2
수록면
48 - 59 (12page)

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이 논문의 연구 히스토리 (10)

2000

전기적 착색 니켈산화물 박막의 특성과 안정성
이길동 Applied Science and Convergence Technology 2000.02 학술저널

1999

니켈산화물 박막의 전기적착색특성
이길동 Applied Science and Convergence Technology 1999.05 학술저널

1998

제작조건이 전자비임으로 제작된 텅스텐산화물 박막의 전기화학적 퇴화에 미치는 영향
이길동 Applied Science and Convergence Technology 1998.11 학술저널

1997

Influence of Vacuum Pressure on Electro Chrmc Properties of WO3 Films
이길동 한국태양에너지학회 논문집 1997.12 학술저널

1996

기판온도가 전자비임으로 제작된 텅스턴 산화물박막의 화학적 안정성에 미치는 영향
이길동 Applied Science and Convergence Technology 1996.12 학술저널
박막의 두께가 전자비임으로 제작된 전기적 착색 텅스텐 산화물 박막의 화학적 안정성에 미치는 영향
이길동 한국태양에너지학회 학술대회논문집 1996.11 학술대회자료
전기적 착색텅스텐 산화물 박막의 화학적 안정성
이길동 한국태양에너지학회 논문집 1996.06 학술저널

1995

텅스텐 산화물 박막의 화학적 퇴화
이길동 한국태양에너지학회 논문집 1995.12 학술저널
전자비임에 의해 제작된 WO₃박막의 전기적착색 특성에 대한 진공도의 효과
이길동 한국태양에너지학회 학술대회논문집 1995.06 학술대회자료
전자비임에 의해 제작된 WO3 박막의 전기적착색 특성에 대한 진공도 효과 ( the Vacuum Pressure Effects On Electrochromic Properties of Tungsten Oxide Thin Films by Electron Beam Evaporation )
이길동 한국에너지학회 학술발표회 1995.05 학술대회자료

초록· 키워드

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니켈산화물 박막을 전자살증착법으로 제작하고 제작조건 특히 기판온도가 막의 안정성에 미치는 영향을 연구하였다. 제작된 시료의 광학적 특성과 안정성은 강하게 기판온도에 의존하였으며 기판온도 l50~200℃에서 제작된 NiO막은 0.5몰 KOH 용액속에서 -0.6~+0.8 V 사이의 5000사이클 후 에도 안정하였다. 5000사이클 후 가창 우수한 전기적 착색인자는 기판온도 150℃에서 제작된 시료에서 얻어졌으며 착색인자는 착색효율 CE=-0.049 ㎠/mC, 광학적 밀도변화 △OD=0.88, 막에 주입된 전하 Q_(in)=-18.11 mC/㎠ 그리고 막속에 남아있는 전하 Q_(left)=l4.8 mC/㎠였다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험

3. 실험결과 및 논의

4. 결론

감사의 글

참고문헌

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