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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 1997.12
- 수록면
- 143 - 146 (4page)
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The effects of deposition rate on exchange coupling field Hex and coercive field Hc in NiO spin-valves are discussed. The Hex and Hc increased with deposition rate of NiO film. The rms roughnesses of the NiO deposited at 6 Å/min (NiO-Low) and 30 Å/min (NiO-High) were almost similar, however, the short-range roughness increased with the deposition rate. The Hex, He and surface morphologies for the modulated NiO spin-valve films such as NiO-Low＼NiO-High＼NiO-Low and NiO-High＼NiO-Low were investigated.
목차
Abstract
1. Introduction
2. Experimental
3. Results and Discussions
4. Conclusions
Acknowledgements
References
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