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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 1999.5
- 수록면
- 127 - 135 (9page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (10)
1997
1996
1995
텅스텐 산화물 박막의 화학적 퇴화
이길동
한국태양에너지학회 논문집
1995.12
학술저널
전자비임에 의해 제작된 WO₃박막의 전기적착색 특성에 대한 진공도의 효과
이길동
한국태양에너지학회 학술대회논문집
1995.06
학술대회자료
전자비임에 의해 제작된 WO3 박막의 전기적착색 특성에 대한 진공도 효과 ( the Vacuum Pressure Effects On Electrochromic Properties of Tungsten Oxide Thin Films by Electron Beam Evaporation )
이길동
한국에너지학회 학술발표회
1995.05
학술대회자료
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니켈산화물 박막은 전자비임증착법에 의해 제작되었다. 막의 내구성조사를 위한 착색과 탈색은 순환 전압전류법으로 KOH 전해질속에서 반복 수행되었으며 퇴화된 막의 투과율은 가시광선 분광기로 측정하였다. X선 광전자분광에 의한 분석 결과 막의 낱알 내부보다 낱알표면에 많은 산소가 포함되어 있었다. 착색된 막의 열린회로기억성은 KOH전해질 속에서 약 400시간 정도였다. 막의 자체방전율은 충분히 산화시켜서 파장 550 ㎚에서 투과율을 측정하여 평가하였으며 자체방전율은 시간에 따라 다항식형으로 증가하고 400시간 후에 완전히 탈색되었다. KOH 전해질속에서 사이클이 반복된 막의 표면낱알의 형태는 변하였으며 3×10^(-4) mbar에서 제작된 시료가 막의 안정성이 좋았다. 전기적착색성을 설명하기 위해 띠이론이 논의되었다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 실험결과 및 논의
4. 결론
참고문헌
참고문헌 (0)
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