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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology Applied Science and Convergence Technology Vol.25 No.2
- 발행연도
- 2016.3
- 수록면
- 32 - 35 (4page)
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Using conventional deposition techniques, we demonstrate a method to fabricate ultra-smooth 10 nm silver films without using a wetting layer or co-depositing another material. The argon working pressure plays a crucial role in achieving an excellent surface flatness for silver films deposited by DC magnetron sputtering on an InP substrate. The formation of ultra-smooth silver thin films is very sensitive to the argon pressure. At the optimum deposition condition, a uniform silver film with an rms surface roughness of 0.81 nm has been achieved.
목차
Abstract
I. Introduction
II. Experiments and Discussion
III. Summary
References
참고문헌 (22)
참고문헌 신청
N. Fang, H. Lee, C. Sun, and X. Zhang, Science 308, 534-537 (2005).
P. Chaturvedi, W. Wu, V. J. Logeeswaran, Z. Yu, M. S. Islam, S. Y. Wang, R. S. Williams, and N. X. Wang, Appl. Phys. Lett. 96, 043102 (2010).
X. Zhang, and Z. Liu, Nat. Mater. 7, 435-441 (2008).
Y. Sonnefraud, N. Verellen, H. Sobhani, G. A. E. Vandenbosch, V. V. Moschalkov, P. V. Dorpe, P. Norlander, and S. A. Maier, ACS Nano 4, 1664-1670 (2010).
J. Valentine, S. Zhang, T. Zentgraf, E. Ulin-Avila, D. A. Genov, G. Bartal, and X. Zhang, Nature 455, 376-379 (2008).
P. Chaturvedi, W. Wu, V. J. Logeeswaran, Z. Yu, M. S. Islam, S. Y. Wang, R. S. Williams, and N. X. Wang, Appl. Phys. Lett. 96, 043102 (2010).
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Y. Sonnefraud, N. Verellen, H. Sobhani, G. A. E. Vandenbosch, V. V. Moschalkov, P. V. Dorpe, P. Norlander, and S. A. Maier, ACS Nano 4, 1664-1670 (2010).
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