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이용수
Abstract
1. 서론
2. 이론적 고찰
3. 시료의 제작 및 측정
4. 결과 및 고찰
5. 결론
Reference
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1991 .07
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1993 .11
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1997 .07
레이져 CVD에 의한 SiO₂막의 형성기구 모델링에 관한 연구
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1991 .07
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1990 .11
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1996 .11
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1996 .11
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성
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1993 .07
Laser CVD에 의한 Ta₂O₅ 형성과 그 특성
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1994 .07
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1993 .07
Laser CVD silicon nitride막의 수명시간 예측에 관한 Simulation
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1990 .11
Laser Cvd Silicon Nitride막의 수명시간 예측에 관한 Simulation ( Simulation of Life Time Laser Cvd Sin Films )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
Laser CVD에 의한 poly-Si 막의 퇴적 및 Laser etching 특성
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1996 .07
Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
The Characteristics of Poly-Si Films Deposited by Laser CVD and Laser Etching
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
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