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c-C5F8 플라즈마를 이용한 차세대 dielectric 물질의 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
CBr₂F₂ 플라즈마를 이용한 반도체 물질의 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C6F6 플라즈마를 이용한 패터닝 공정에서의 첨가 가스(Ar, O2) 에 따른 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Nano Pattern 된 Ultra Low-k Dielectric 물질에서의 C₃H₂F6를 이용한 Low Damage 식각 공정 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
낮은 GWP의 C₃H₂F6 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F8 for inductively coupled plasma based on plasma parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
플라즈마 활성종 측정을 통한 낮은 지구 온난화 지수를 가진 precursor의 SiO2 식각 특성 진단
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Etching of Ta₂O₅ thin films by inductively coupled plasma
한국분석과학회 학술대회
2024 .11
PFC(Perfluorocarbon) gas 대체 precursor로써 L-FC(Liquid Fluorocarbon)의 회수 및 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C₃H₂F₆ Isomer를 이용한 Dielectric 식각 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
L- Hydrofulorocarbon Plasma를 이용한 Dielectric 식각 물질 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Dry etching of Al₂O3 thin films in inductively coupled plasma system
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Brief Review of Atomic Layer Etching Based on Radiofrequency-Biased Ar/C₄F6-Mixture-Based Inductively Coupled Plasma Characteristics
Applied Science and Convergence Technology
2023 .03
Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C7F14, C7F8) and Fluorocarbon Gas (C₄F8)
Applied Science and Convergence Technology
2021 .07
C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
L-FC를 이용한 플라즈마 공정 중 회수 및 재사용 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Experimental investigation on plasma density distribution at a wafer-level in an inductively coupled plasma using multiple passive resonant antennas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Interpretation of current decrease during E - H mode transition in a cylindrical inductively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
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