Influence of Bias Voltage on the Microstructure and Properties of Ti-Si-N Films Deposited by Using High-power Impulse Magnetron Sputtering

Rongguang Jin; Ji Cheng Ding; KwangHo Kim

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Rongguang Jin (부산대학교) Ji Cheng Ding (부산대학교) KwangHo Kim (부산대학교)

저널정보: 한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2018년도 한국표면공학회 추계학술대회 논문집

발행연도: 2018.11

수록면: 109 - 109 (1page)

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