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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
허성보 (한국생산기술연구원) 김왕렬 (한국생산기술연구원)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제54권 제5호
발행연도
2021.10
수록면
230 - 237 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2021

초고경도 Ti–Al–Si–N 나노복합체 코팅막의 미세구조 및 트라이볼로지 거동에 관한 연구
허성보 ,  김왕렬 한국표면공학회지 2021.10 학술저널

2020

내열합금 가공을 위한 초고경도 Titanium-Aluminum-Silicon-Copper-Nitride 나노복합체 코팅막의 응용에 관한 연구
허성보 첨단소재공학과 2020.01 학위논문

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In this study, the influence of silicon contents on the microstructure, mechanical and tribological properties of Ti–Al–Si–N coatings were systematically investigated for application of cutting tools. The composition of the Ti–Al–Si–N coatings were controlled by different combinations of TiAl₂ and Ti₄Si composite target powers using an arc ion plating technique in a reactive gas mixture of high purity Ar and N₂ during depositions. Ti–Al–Si–N films were nanocomposite consisting of nanosized (Ti,Al,Si)N crystallites embedded in an amorphous Si₃N₄/SiO₂ matrix. The instrumental analyses revealed that the synthesized Ti–Al–Si–N film with Si content of 5.63 at.% was a nanocomposites consisting of nano-sized crystallites (5–7 nm in dia.) and a three dimensional thin layer of amorphous Si₃N₄ phase. The hardness of the Ti–Al–Si–N coatings also exhibited the maximum hardness value of about 47 GPa at a silicon content of ~5.63 at.% due to the microstructural change to a nanocomposite as well as the solid-solution hardening. The coating has a low friction coefficient of 0.55 at room temperature against an Inconel alloy ball. These excellent mechanical and tribological properties of the Ti–Al–Si–N coatings could help to improve the performance of machining and cutting tool applications.
#Ti–Al–Si–N #Nanocomposite #Superhard #Tribological behavior #Arc ion plating

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (27)

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P. H. Mayrhofer, C. Mitterer, L. Hultman, H. Clemens, Microstructural Design of Hard Coatings, Progress in Materials Science 51 (2006) 1032-1114. google schola J. M. Schneider, S. Rohde, W. D. Sproul, A. Matthews, Recent developments in plasma assisted physical vapour deposition, J. Physics D: Applied Physics 33 (2000) 173-186. google schola D. Merche, N. Vandencasteele, F. Reniers, Atmospheric plasmas for thin film deposition: A critical review, Thin Solid Films 520 (2012) 4219-4236. google schola N. A. G. Ahmed, Ion plating Technology Developments and Application, (1987) 103. google schola A. Matthews, D. G. Teer, Deposition of Ti-N compounds by thermionically assisted triode reactive ion plating, Thin Solid Films 72 (1980) 541-549. google schola

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