산업공정 플라즈마에서 극판 전력이 플라즈마 변수에 미치는 영향

이효창

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 이효창 (한국표준과학연구원)

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 2018년 한국진공학회 (제54회 동계정기학술대회 초록집)

발행연도: 2018.2

수록면: 90 - 90 (1page)

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2018

산업공정 플라즈마에서 극판 전력이 플라즈마 변수에 미치는 영향

이효창 한국진공학회 학술발표회초록집 2018.02 학술대회자료

2017

유도 결합 플라즈마 기술

이효창 인포메이션 디스플레이 2017.01 학술저널

2012

유도 결합 플라즈마에서 플라즈마 변수와 전자 에너지 분포에 대한 극판 전력 인가의 영향

이효창 , 정진욱 Applied Science and Convergence Technology 2012.05 학술저널

유도결합플라즈마에서 플라즈마 변수와 전자 에너지 분포에 대한 RF bias의 영향

이효창 , 정진욱 한국진공학회 학술발표회초록집 2012.02 학술대회자료

2010

유도 결합 플라즈마에서의 기체 유량에 따른 전자 에너지 분포의 전이

이효창 , 정진욱 한국진공학회 학술발표회초록집 2010.02 학술대회자료

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#극판 전력 #유도결합플라즈마 #RF biased inductively coupled plasma

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소속기관 한국표준과학연구원

주요연구분야 자연과학 > 물리학 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

논문수 24 이용수 1,248

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유도 결합 플라즈마에서 플라즈마 변수와 전자 에너지 분포에 대한 극판 전력 인가의 영향

이효창 , 정진욱 Applied Science and Convergence Technology 2012 .05

반도체 및 디스플레이 산업 플라즈마 측정 진단 기술

이효창 진공이야기 2018 .12

Effect of rf bias power on plasma density and electron heating in inductively coupled plasma (ICP)

이호원 , 김주호 , 정진욱 한국진공학회 학술발표회초록집 2017 .08

유도결합플라즈마에서 플라즈마 변수와 전자 에너지 분포에 대한 RF bias의 영향

이효창 , 정진욱 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 .02

용량성 결합 플라즈마에서 위상분해광방출 진단법을 이용한 전자가열 및 전자빔 거동 이해와 이를 통한 새로운 플라즈마 밀도 측정 기술 개발

최은석 , 김정형 , 성대진 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 2020 .02

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