공진 안테나를 사용한 유도 결합 플라즈마에서 고효율 플라즈마 발생 및 플라즈마 동역학 연구

김주호 ,  정진욱

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Dry etching of Al₂O₃ thin films in inductively coupled plasma system

Seok SON ,  Young Hee JOO ,  Chang Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F₈ for inductively coupled plasma based on plasma parameters

J. J. Lee ,  S. J. Kim ,  Y. S. Lee 외 2명

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2019 .08

Experimental investigation on the plasma generation efficiency and plasma parameters in inductively coupled plasmas with a serial and a parallel antenna

김태우 ,  강현주 ,  정진욱

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2017 .08

Investigation of effect of rf bias frequency on plasma parameters in a remote inductively coupled plasma

Aixian Zhang ,  Moo-Young Lee ,  Ho-Jun Moon 외 1명

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2018 .08

ICP 소스 외벽에 플라즈마가 미치는 온도 분포

김동훈 ,  윤성진 ,  유상문 외 1명

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2018 .02

The effect of gas flow on the substrate temperature distribution in an inductively coupled plasma

Yeong-Min Lim ,  Min-Seok Kim ,  Hyundong Eo 외 1명

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2020 .08

Research on parallelization mechanism of inductively coupled plasma for large area plasma source

이장재 ,  김시준 ,  김광기 외 5명

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2016 .02

플라즈마 진단 시스템을 이용한 기판에서의 플라즈마 밀도 측정 실험

박연수 ,  신기원 ,  김우재 외 5명

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2021 .02

Electrical Characteristics of Inductively Coupled Plasma Sources using Magnetic Resonance Wireless Power Transmission System

Ju-Ho Kim ,  Chin-Wook Chung

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2020 .08

Experimental investigation on plasma density distribution at a wafer-level in an inductively coupled plasma using multiple passive resonant antennas

홍영훈 ,  김주호 ,  이무현 외 2명

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2020 .08

Interpretation of current decrease during E - H mode transition in a cylindrical inductively coupled plasma

Jun-Hyeon Moon ,  Ho-Jun Moon ,  Chin-Wook Chung

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2018 .08

Inductively Coupled Plasma Simulation Based on Electron Energy Distribution Function and Process Pressure

So ,  a Lee ,  Yejin Shon 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

2020 .11

Effect of rf bias power on plasma density and electron heating in inductively coupled plasma (ICP)

이호원 ,  김주호 ,  정진욱

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2017 .08

Inductively Coupled Plasma 장치를 활용한 Ar, Ar/O₂ 방전에서 metastable 아르곤 특성 파악

김환호 ,  천청빈 ,  이해준

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2020 .02

Brief Review of Atomic Layer Etching Based on Radiofrequency-Biased Ar/C₄F₆-Mixture-Based Inductively Coupled Plasma Characteristics

Min Young Yoon ,  Hee Jung Yeom ,  Jong-Ryul Jeong 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2023 .03

산업공정 플라즈마에서 극판 전력이 플라즈마 변수에 미치는 영향

이효창

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2018 .02

Ar/NF3 혼합가스 Remote plasma source에서의 플라즈마 밀도 측정 및 Si/SiO₂ 식각률 측정

H.J.Yeom ,  Y.S.Lee ,  S.J.Kim 외 5명

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2018 .08

Inductively Coupled Plasma 장치에서 Hybrid Plasma Model을 활용한 C₂F₈/ O₂ 가스의 특성 해석

김환호 ,  이정열 ,  박희성 외 2명

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2019 .08

What do we know about plasma?

유석재

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2020 .02