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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
대한전기학회 Journal of Electrical Engineering & Technology Journal of Electrical Engineering & Technology Vol.13 No.1
발행연도
2018.1
수록면
387 - 392 (6page)

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Static characteristics of SiC (silicon carbide) lateral p-i-n diodes implemented on semiinsulating substrate without an epitaxial layer are investigated. On-axis SiC HPSI (high purity semiinsulating) and VDSI (vanadium doped semi-insulating) substrates are used to fabricate the lateral p-i-n diode. The space between anode and cathode (LAC) is varied from 5 to 20 ㎛ to investigate the effect of intrinsic-region length on static characteristics. Maximum breakdown voltages of HPSI and VDSI are 1117 and 841 V at L<SUB>AC</SUB> = 20 ㎛, respectively. Due to the doped vanadium ions in VDSI substrate, diffusion length of carriers in the VDSI substrate is less than that of the HPSI substrate. A forward voltage drop of the diode implemented on VDSI substrate is 12 V at the forward current of 1 ㎂, which is higher than 2.5 V of the diode implemented on HPSI substrate

목차

Abstract
1. Introduction
2. Device Structure and Fabrication
3. Results and discussion
4. Conclusions
References

참고문헌 (16)

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