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이용수
Abstract
Ⅰ. INTRODUCTION
Ⅱ. EXPERIMENTS AND MODELING
Ⅲ. RESULTS AND DISCUSSION
Ⅳ. CONCLUSION
REFERENCES
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
Analysis of Insulating Characteristics of Cl₂-He Mixture Gases in Gas Discharges
Journal of Electrical Engineering & Technology
2015 .07
Cl₂/Ar gas mixture 중성빔을 이용한 블록공중합체 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015 .11
Etching Characteristics and Mechanism of Low Temperature Deposited Silicon Nitride Film Using Inductively Coupled CH2F2/O2/Ar Plasma
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
Ar/CF4/Cl2 플라즈마에 의한 CeO2 박막의 식각 특성 연구
전기전자재료학회논문지
2002 .01
방전 플라스마에 의한 CFC-12($CCl_2F_2$)의 분해
한국안전학회지
1999 .01
Cl2 / Ar 가스 플라즈마에 O2 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by O2 Addition to Cl2 / Ar Gas Plasma )
전자공학회논문지-D
1999 .05
평등 및 불평등 전계하에서 순수 Ar, N₂ 가스와 Ar/N₂ 혼합 가스의 교류절연파괴 특성
조명·전기설비학회논문지
2001 .09
Study of silicon nitride etching with global warming effects for C₃F6O/O₂ and C₃F6/O gas mixtures
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
DEGREE OF DISSOCIATION OF A NITROGEN FLOW IN A PLASMA GENERATOR
International Conference on Fluid Machinery
1992 .10
Effect of Process Parameters on Plasma Equipment in a Cl₂ Inductively Coupled Plasma
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Cl₂/Ar 혼합가스를 이용한 VO₂ 박막의 유도결합 플라즈마 식각
전기전자재료학회논문지
2008 .01
Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
Measurement of Ar Temperature of Hollow Cathode Discharge Plasma
전기전자재료학회논문지
2005 .01
Dissociation Mechanism of C4F8 Gas in Parallel-Plate-Type RIE
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
유도결합형 플라즈마에서 압력에 따른 Ar Gas의 특성분석
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .07
CF4/Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2003 .01
SiC/ $Si_{3}N_{4}$ 복합재료의 $O_{2}/Cl_{2}$분위기에서의 고온 부식거동
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
지하수 조사에서 환경추적자로서의 $SF_6$의 적용
한국지하수토양환경학회 학술발표회
2003 .01
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