지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
A high-pressure depletion method using plasma chemical vapor deposition (CVD) is often used to deposit hydrogenated microcrystalline silicon (μc-Si:H) films of a low defect density at a high deposition rate. To understand proper deposition conditions of μc-Si:H films for a high-pressure depletion method, Si films were deposited in a combinatorial way using a multi-hollow discharge plasma CVD method. In this paper the substrate temperature dependence of μc-Si:H film properties are demonstrated. The higher substrate temperature brings about the higher deposition rate, and the process window of device quality μc-Si:H films becomes wider until 200℃. This is attributed to competitive reactions between Si etching by H atoms and Si deposition.
목차
Abstract
1. Introduction
2. Experimental Details
3. Results and Discussion
4. Conclusions
References
참고문헌 (31)
참고문헌 신청
[학술대회논문] - J. Meir / 1994 / / Proc. 1st WCPEC : 409 ~
[학술지(정기간행물)] - Y. Sobajima / 2010 / / Phys. Status Solidi C 7 : 521 ~
[학술지(정기간행물)] - S. Nunomura / 2009 / / Appl. Phys. Lett 94 : 071502 ~
[학술지(정기간행물)] - Y. Sobajima / 2009 / / Sol. Energy Mater. Sol. Cell 93 : 980 ~
[학술지(정기간행물)] - M. Kondo / 2000 / / J. Non- Cryst. Solids 84 : 266 ~
[학술지(정기간행물)] - Y. Sobajima / 2010 / / Phys. Status Solidi C 7 : 521 ~
[학술지(정기간행물)] - S. Nunomura / 2009 / / Appl. Phys. Lett 94 : 071502 ~
[학술지(정기간행물)] - Y. Sobajima / 2009 / / Sol. Energy Mater. Sol. Cell 93 : 980 ~
[학술지(정기간행물)] - M. Kondo / 2000 / / J. Non- Cryst. Solids 84 : 266 ~
함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Effects of Si cluster incorporation on properties of microcrystalline silicon thin films
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2016 .11
-
화학기상증착 코팅로의 용량에 따른 탄소 코팅 SiOx의 물리적 특성 변화 분석
한국표면공학회지
2022 .12
-
Modeling on Hydrogen Effects for Surface Segregation of Ge Atoms during Chemical Vapor Deposition of Si on Si/Ge Substrates
화학공학
2017 .01
-
High‑Performance Amorphous Silicon Thin Film Solar Cells Prepared at 100 °C: Toward Flexible Building‑Integrated Photovoltaics
Electronic Materials Letters
2019 .01
-
[세션초청논문] Optimization of growth rate for Si in a planetary CVD reactor
대한기계학회 춘추학술대회
2019 .11
-
DEPOSITION OF WIDE BANDGAP SILICON ALLOY FILMS FOR THIN-FILM SILICON SOLAR CELLS BY CONTROLLING CARBON RATIO
AFORE
2015 .11
-
홈메이드 ALD(atomic layer deposition)의 제작과 알루미늄 옥사이드의 제작
대한전자공학회 학술대회
2021 .11
-
FDM 방식 3D Printing에서 적층 강도에 대한 고찰
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2015 .10
-
Study on the Coupled Effects of Process Parameters on Silicon Growth Using Chemical Vapor Deposition
반도체디스플레이기술학회지
2019 .01
-
DED 공정을 이용한 얇은 벽 적층 시 적층부 길이 및 두께에 따른 적층 형상 비교 분석
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2023 .05
-
Direct Chemical Vapor Deposition Growth of ReS2 on Graphene
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2017 .10
-
Process optimization of silicon growth in a planetary CVD reactor using CFD-RSM combined method
대한기계학회 춘추학술대회
2020 .12
-
Numerical Modeling on Epitaxial Growth of Silicon in a Planetary CVD Reactor
대한기계학회 춘추학술대회
2017 .11
-
LMD 공정을 이용한 Inconel 718 분말 단일 비드 적층시 레이저의 중출력 범위에서의 공정 조건 고찰
한국기계가공학회지
2022 .10
-
Investigation of Influence of Deposition Strategies on Thermo-Mechanical Characteristics of Planar Deposition Using a Directed Energy Deposition Process
한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집
2019 .10
-
Tailoring complex refractive index of amorphous silicon via chemical deposition equilibrium
대한기계학회 춘추학술대회
2020 .07
-
Study of Cooling Rate on the Growth of Graphene via Chemical Vapor Deposition
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2017 .04
-
폴리머 기판을 위한 증착 기법에 대한 연구
한국트라이볼로지학회 학술대회
2018 .10
-
Characteristics of Al₂O₃ thin films grown by using atomic layer deposition at low temperature
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2022 .05
-
그래핀 CVD 내 열기류 및 화학반응 해석
대한기계학회 춘추학술대회
2017 .05
이 논문의 저자 정보
이 논문과 함께 이용한 논문
EFFECTS OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON PROPERTIES OF FLUORINE CONTAINED SILICON OXIDE FILMS PREPARED BY MICROWAVE PLASMA-ENHANCED CVD
Nobuhisa Sugimoto
,
Atsushi Hozumi
,
Osamu Takai
한국표면공학회지
1996
.10
PECVD를 이용하여 질화된 AISI4140의 화합물층 유무에 따른 기계적 특성 연구
정연주
,
박현준
,
김형순
외 1명
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015
.05
PVD법을 통해 제작한 Al-Mg 코팅막의 구조와 내식성 상관관계
강재욱
,
박준무
,
윤용섭
외 2명
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015
.05
HDP CVD에서 공정 가스 유량 감소에 따른 D/S ratio의 변화에 의한 Gap-fil 특성 확인
박신근
,
서창수
,
지상엽
외 6명
대한전자공학회 학술대회
2015
.06
Interfacial stability and electrical properties of atomic layer deposited Ta₁-xZrx O/SiO₂
Chand
,
eswa
,
Mahata
외 1명
대한전자공학회 학술대회
2015
.06
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2016-581-001656227