향상된 MDRANGE을 사용한 초미세 접합 형성에 관한 연구 ( A Study on Ultra-Shallow Junction Formation Using Upgraded MDRANGE )

강정원 ,  강유석 ,  손명식 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .11

초미세 접합형성을 위한 극 저 에너지 B , P 및 As 이온주입시 채널링 현상에 관한 연구 ( A Study on the Channeling Effect of Ultra Low Energy B , P and As Ion Implant to Form Ultra-Shallow Junction of Semiconductor Device )

강정원 ,  황호정

전자공학회논문지-D

1999 .03

역전법을 응용한 실리사이드화된 매우 얇은 접합의 형성 ( Formation of Silicided Ultra-Shallow Junction employing Layer Reversal Method )

김종렬 ,  홍성윤 ,  윤명로 외 2명

전자공학회논문지-A

1996 .08

선비정절화를 이용한 Shallow p+-n 접합 형성에 관한 연구 ( A Study on the Formation of Shallow p+-n Junctions Using Preamorphization )

한명석 ,  홍신남 ,  김형준

전자공학회논문지-A

1991 .09

동시 접합 공정에 의한 자기정렬 코발트 실리사이드 및 얇은 접합 형성에 관한 연구 ( A Study on the Self-Aligned Cobalt Silicidation and Formation of a Shallow Junction by Concurrent Junction Process )

이석운 ,  민경익 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .02

FORMATION OF ULTRA SHALLOW JUNCTION USING ADDITIONAL RAPID THERMAL ANNEALING ( RTA ) PROCESS

Kil Ho Lee ,  Sang Ho Yu

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P⁺-N 극저접합 다이오드의 제작과 전기적특성

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .06

BF2+가 이온 주입된 코발트로부터 확산하여 얻어진 매우 얇은 p+ / n 접합의 형성 ( Formation of Ultra-shallow p+ / n Junction by Diffusion from BF2+ Implanted Co Metal )

이석운 ,  민경익 ,  주승기

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P+ -N 극저접합의 형성 ( Formation of P-N Ultra Shallow Junction with The Co / Ti Bilayer Silicide Contact )

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 p+ - n 극저접합의 형성 ( Formation of p+ - n Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )

장지근 ,  엄우용 ,  신철상 외 1명

전자공학회논문지-D

1998 .05

에피 코발트 실리사이드막으로 부터의 붕소 확산을 이용한 극저층 p+n 접합 형성 ( Ultra Shallow p+n Junction Formation Using the Boron Diffusion from Epi-Co Silicide )

변성자 ,  권상직 ,  김기범 외 1명

전자공학회논문지-A

1996 .07

6H-SiC P^(+)n 접합의 항복 전압을 위한 해석적 모형 ( Analytical Model of Breakdown Voltages for 6H-SiC p^(+)n Junction )

정용성

전자공학회논문지-SD

2001 .06

투과전자현미경을 이용한 $n^+$/p 접합에서 불순물의 이차원적 분포에 관한 연구

Pa ,  k ,  Chel-Jong 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

$CoSi_2$를 확산원으로 형성한 매우 얇은 접합의 전기적 특성

구본철 ,  정연실 ,  심현상 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

$CoSi_2$ 에피박막을 확산원으로 이용한 매우 얇은 접합의 형성

김종렬 ,  홍성윤 ,  윤명로 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

고속열확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리사이드화 된 n+ -P 다이오드 특성분석 ( The formation of the Shallow Junction by Rapid Thermal Diffusion and characteristic Analysis for n+ -p Diode with Ti-silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1993 .11

고속 열 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti - 실리사이드화된 n - p 다이오드 특성 분석 ( The Formation of the Shallow Junction by RTD Characteristic Analysis for n - p Diode with Ti - silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

전자공학회논문지-A

1994 .08

커패시턴스 측정을 통한 부정형 접합을 갖는 pn 접합의 유효 접합 면적 및 반송자 수명의 추출

조성재 ,  김상완 ,  손영환 외 4명

대한전자공학회 학술대회

2009 .07

Formation of Shallow p+ -n Junction by B+ Implantation Through As+ - Preamorphized Si

권상직 ,  이종덕

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

이온주입 및 열처리 조건에 따른 박막접합의 특성 비교 ( Comparison of Shallow Junction Properties depending on Ion Implantation and Annealing Conditions )

홍신남 ,  김재영

전자공학회논문지-D

1998 .07