ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향

金正浩 ,  李昈駿 ,  李晳賢 외 1명

전기학회논문지

1993 .04

ECR 플라즈마를 이용한 Cu 박막의 건식 식각특성에 관한 연구

이성권 ,  이원종 ,  천성순

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

이온에너지분석에 의한 ECR 플라즈마의 특성및 식각특성 연구

이호준 ,  이석현 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

이온에너지분석에 의한 Ecr 플라즈마의 특성 및 식각특성 연구 ( A Study on the Properties of Ecr Plasma and Its Etching Characteristics by Ion Energy Analysis )

이호준 ,  이석현 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

이온 분석기에 의한 ECR플라즈마의 특성 분석 및 실리콘 식각에 관한 연구

李晳賢 ,  李昈駿 ,  黃琪雄

전기학회논문지

1992 .05

ECR의 원리를 이용한 플라즈마 가열장치에 대한 연구

김원섭

대한전기학회 학술대회 논문집

2002 .07

ECR Etch에 의한 MoSi₂ 막의 식각 특성

이한신 ,  강희복 ,  박지순 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1992 .07

반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구

윤창식 ,  이종근 ,  김택수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .12

반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )

윤창식 ,  이종근 ,  김택수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .11

ECR Etch에 의한 MoSi₂ 막의 식각 특성

成英權 ,  姜熙福 ,  許允宗 외 1명

전기학회논문지

1993 .05

ECR 산소 플라즈마를 이용한 저온 열산화 ( Low Temperature Thermal Oxidation using ECR Oxygen Plasma )

이정열 ,  강석원 ,  이진우 외 2명

전자공학회논문지-A

1995 .03

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

Etch Simulator 개발을 위한 High Density Oxide Etcher 식각 특성 분석

강정원 ,  이동현 ,  김재정

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Compact ECR plasma 장치의 제작 및 특성 연구 ( Study on the Fabrication and Characterization of Compact ECR Plasma System )

윤민희 ,  박원일 ,  남기석 외 1명

전자공학회논문지-A

1994 .04

ECR 플라즈마 방법에 SiO₂ 박막 제조에 관한 연구

이현 ,  강문상 ,  구용서 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

ECR 플라즈마 방법에 의한 SiO2 박막 제조에 관한 연구 ( A Study on the Fabrication of SiO2 Films by ECR Plasma Method )

이현 ,  강문상 ,  구용서 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

ECR 플라즈마에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Thin Films Formed by ECR Plasma )

구본영 ,  전유찬 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .10

플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  김말문 외 1명

전자공학회논문지

1987 .01