RTN 공정에 의한 RTO 실리콘 산화막의 전기적 특성 변화 ( EFFECTS OF THE PAPID THERMAL NITRIDATION ON THE ELECTRICAL PROPERTIES OF THE THIN SILICON DIOXIDE FILMS )

김윤태; 배남진; 유형준

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 김윤태 배남진 유형준

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술발표회 논문집 (반도체/재료부품/CAD/VLSI) 제6권 1호

발행연도: 1988.1

수록면: 86 - 88 (3page)

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