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이용수
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 실험
4. COMPUTER SIMULATION
5. 결론
참고문헌
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감광제의 노광변수 추출을 위한 효율적인 전산모사기 ( Effective Lithography Simulator for Extraction of Photoresist Exposure Parameter )
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
O₂와 N₂ 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
Photoresist Exposure Parameter Extraction from Refractive Index Change During Exposure
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
하이브리드 자외선 노광법을 이용한 3차원 고종횡비 미소구조물 제작
대한기계학회 논문집 A권
2016 .08
EUV 리소그래피의 감광제 패터닝 공정에 대한 전산모사
대한기계학회 춘추학술대회
2018 .04
액침 홀로그래픽 리소그래피 기술을 이용한 2 차원 나노패터닝
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2006 .12
화학공정 비정상상태 모사기 개발 Ⅰ.
제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집
1988 .10
화학공정 비정상상태 모사기 개발 ( I ) ( Development of Dynamic Process Simulator I. )
대한전자공학회 학술대회
1988 .01
투과증발 시스템 모사기 개발
멤브레인
1997 .01
고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구 ( A Study on Photoresist Stripping Using High Density Oxygen Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
전자빔의 파라미터에 따른 노광특성 분석
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2009 .06
Photoresist Technology
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
Fabrication of 100㎛ thick mold and electroplating using thick photoresist
대한전기학회 학술대회 논문집
2002 .07
A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2000 .10
홀로그램 노광 및 PR 식각을 이용한 금속회절 격자의 제조
한국통신학회 기타 간행물
2004 .11
페루우프 엔진제어 전산모사기 연구
대한전자공학회 학술대회
2018 .06
선택적 경사 노광과 후면 노광에 의한 3차원 구조물의 제작
전기학회논문지 C
2004 .01
실시간 영상 추적 모사기의 구현 ( Implementation of a Simulator for Real-Time Video Tracker )
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
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