미해상회절 마스크 광리소그래피를 이용한 T-형 패턴 게이트 형성기술

박병선 ,  오용호 ,  양전욱 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .12

위상변환 마스크 리소그래피에 의한 0.15 ㎛ T-형 게이트 형성방법

박병선 ,  김일광 ,  이진희 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

미세 패턴 형성을 위한 위상 반전 마스크 연구 ( Alternating Phase Shift Mask for Sub-0.25 mm Lithography )

김희범 ,  안창남 ,  백기호

대한전자공학회 워크샵

1996 .01

위상변환 마스크 리소그래피에 의한 0.15μm T-형 게이트 형성방법 ( The Formantion of 0.15μm T-Shaped GAte By Phase Shift Mask Using A New Optical Lithograpic Technique )

박병선 ,  김일광 ,  이진희 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

광굴절 결정의 회절효율 특성을 이용한 광 논리 게이트 ( Optical Logic Gate Using Diffraction Efficiency Characteristics of Photorefractive Crystal )

김정회 ,  안준원 ,  김남 외 3명

한국통신학회 광전자공학 학술회의

1998 .01

광굴절 결정의 회절효율 특성을 이용한 광 논리 게이트 ( Optical Logic Gate Using Diffraction Efficiency Characteristics of Photorefractive Crystal )

김정회 ,  안준원 ,  김남 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

대면적 나노구조 패턴 제작을 위한 레이저 간섭 리소그래피 기술을 활용한 가간섭성 회절 기술에 관한 연구

김상민 ,  박창수 ,  이준상 외 1명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2019 .11

광섬유 브래그 격자용 위상 마스크에 의한 회절 및 간섭 패턴 해석 ( Analysis of Diffraction and Interference Pattern from Phase Mask for Fiber Bragg Grating )

유봉안 ,  이병호 ,  변재오 외 1명

한국통신학회 광전자공학 학술회의

1998 .01

광섬유 브래그 격자용 위상 마스크에 의한 회절 및 간섭 패턴 해석 ( Analysis of Diffraction and Interference Pattern from Phase Mask for Fiber Bragg Grating )

유봉안 ,  이병호 ,  변재오 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

New Developments in 1 : 1 Optical Lithography

Hwan J. Jeong ,  Dave Ma ,  kle

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

T-형 게이트 패턴 형성을 위한 포토마스크 구조 및 리소그래피 공정

박병선 ,  오용호 ,  정해빈 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

Lithographic Characteristics of the Exposure Technology Based on the Dummy Diffraction Mask

Yong Ho Oh ,  Hyung Joun Yoo

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1993 .01

STUDIES ON FABRICATION TECHNIQUES OF SUB-0.4μm T-GATE AND Γ-GATE STRUCTURES USING UV LITHOGRAPHY

Il Hyeong Lee ,  Sung Soo Kim ,  Yeon Sik Chae 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Optical Lithography Simulation Based on Rigorous Diffraction Theory

Kyung Il Lee ,  Seung Gol Lee ,  Jong Ung Lee

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

SUB-QUARTER MICRON LITHOGRAPHY : KrF EXCIMER LASER STEPPER WITH DUMMY DIFFRACTION MASK

Doh Hoon Kim ,  Byung Sun Pa ,  k 외 4명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Optical Lithography at Low K Factors

Ha ,  y Sewell

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

상변화 마스크를 이용한 나노 리소그래피에 관한 연구

성중현 ,  김민수 ,  정명기 외 1명

한국소성가공학회 학술대회 논문집

2018 .05

Synthesis and application of the hybrid mask for soft - lithography

천재은 ,  이현정

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .04

레이저를 이용한 집적광학용 미세패턴 형성기술 개발 ( A mask fabrication method for intergrated optics using laser lithography )

강원구 ,  신상영 ,  권영세

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

레이저를 이용한 집적광학용 미세패턴 형성기술 개발

강원구 ,  신상영 ,  권영세

대한전자공학회 학술대회

1986 .12