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1995
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급속열처리에 의한 TiN / TiSi2 이중구조막을 이용한 submicron contact 에서의 전기적 특성 ( The Electrical Properties of TiN / TiSi2 Bilayer Formed by Rapid Thermal Anneal at Submicron Contact )
전자공학회논문지-A
1994 .09
2단계 급속열처리에 의한 TiN/TiSi₂ 이중구조막의 특성
전기학회논문지
1992 .12
TiN/TiSi2 이중구조막의 submicron contact에서의 전기적 특성
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
A Study on the Properties of TiN/TiSi₂ Bilayer by a Rapid Thermal Anneal in NH₃ Ambient
전기학회논문지
1992 .08
Rapid Thermal Anneal 에 의한 TiN / TiSi2 구조 형성에 관한 연구 ( Ⅰ ) ( Characterization of TiN / TiSi2 Structure Formation by a Rapid Thermal Anneal ( Ⅰ ) )
대한전자공학회 학술대회
1991 .07
RAPID THERMAL ANNEAL에 의한 TiN / TiSi₂구조 형성에 관한 연구(Ⅰ)
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
Ti-Si 계면의 얇은 산화막이 TiN/TiSi₂ 이중구조막 형성에 미치는 영향
전기학회논문지
1996 .02
Characterization of TiN/TiSi2 System by Two Step Rapid Thermal Anneal
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1992 .01
Characterization of TiN / TiSi2 Structure Formation by a Rapid Thermal Anneal
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1991 .01
Characteristics of TiN/TiSi₂ Contact Barrier Layer by Rapid Thermal Anneal in N₂ Ambient
전기학회논문지
1992 .06
The Properties of TiN/TiSi₂ Bilayer Formed by a Two-Step Rapid Thermal Annealing for ULSI Contact
JOURNAL OF KIEE
1994 .03
PVD 방법에 의한 $TiN/TiSi_2$-bilayer 형성
한국재료학회지
1998 .01
Characterization of TiN/TiSi2 contact barrier layer formed by rapid thermal anneal for ULSI devices
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1994 .01
Al/TiN/Ti 전극의 Submicron contact에서의 전기적특성(2)
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .07
RTA 방법에 의하여 제작한 TiN / TiSi 2 의 특성 분석 ( The Characteristics of TiN / TiSi2 Bilayer on Si by RTA in N2 Ambient )
대한전자공학회 학술대회
1989 .01
AI/TiN/Ti 전극의 Submicron contact에서의 전기적특성(1)
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .07
급속열처리에 의한 TiN/TiTi₂ 이중구조막 형성에 대한 Ti-Si 계면에 얇은 산화막의 영향
대한전기학회 학술대회 논문집
1994 .07
Thermal Stability of TiN / TiSi2 Bilayers Formed by two-step Rapid Thermal Conversion Process for Cu Diffusion Barrier
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
기판 실리콘의 BF₂ 불순물 원자에 의한 TiN/TiSi₂ bilayer의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1992 .07
TiN capping layer을 이용한 Titanium silicide 형성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2012 .06
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