ECR 플라즈마 방법에 SiO₂ 박막 제조에 관한 연구

이현 ,  강문상 ,  구용서 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

ECR CVD를 이용한 SiO₂ 박막 특성에 관한 연구

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 SiO2 박막 특성에 관한 연구 ( A Study on The Electrical Characteristics of SiO2 Prepared By ECR CVD )

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착

송선규 ,  장홍영

한국표면공학회지

1990 .12

ECR 플라즈마를 이용한 Cu 박막의 건식 식각특성에 관한 연구

이성권 ,  이원종 ,  천성순

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

A Study on the C-V Voltage Shift of SiO2 Films Prepared By ECR CVD

이현 ,  윤석규 ,  강문상 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

ECR-PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 증착시 형성되는 $SiO_2$에 관한 연구

안성덕 ,  김일 ,  김종석 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

ECR 산소 플라즈마를 이용한 저온 열산화 ( Low Temperature Thermal Oxidation using ECR Oxygen Plasma )

이정열 ,  강석원 ,  이진우 외 2명

전자공학회논문지-A

1995 .03

ECR 플라즈마에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Thin Films Formed by ECR Plasma )

구본영 ,  전유찬 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .10

Compact ECR plasma 장치의 제작 및 특성 연구 ( Study on the Fabrication and Characterization of Compact ECR Plasma System )

윤민희 ,  박원일 ,  남기석 외 1명

전자공학회논문지-A

1994 .04

전자회전공명 플라즈마를 이용한 a-C:H 박막의 특성 연구

김인수 ,  장익훈 ,  손영호

한국산업정보학회 학술대회논문집

2001 .05

Pulsed ECR PECVD를 이용한 $SiO_x$ 박막의 성장 및 특성분석

이주현 ,  정일채 ,  채상훈 외 2명

한국재료학회지

2000 .01

이온에너지분석에 의한 ECR 플라즈마의 특성및 식각특성 연구

이호준 ,  이석현 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

ECR 플라즈마를 이용한 반도체 공정기술

박성호 ,  강봉구

[ETRI] 전자통신동향분석

1988 .06

이온에너지분석에 의한 Ecr 플라즈마의 특성 및 식각특성 연구 ( A Study on the Properties of Ecr Plasma and Its Etching Characteristics by Ion Energy Analysis )

이호준 ,  이석현 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

ECR의 원리를 이용한 플라즈마 가열장치에 대한 연구

김원섭

대한전기학회 학술대회 논문집

2002 .07

ECR PLASMAS FOR ULSI FABRICATION

Young Hoon Lee

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01