Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Photoresist for ArF Immersion Lithography, Applicable for the Reflow Process

Ji Young Song ,  Dong Chul Seo ,  Seung Duk Cho 외 8명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Silicon Containing Positive Resist for ArF Excimer Laser Lithography

이해원 ,  김영대 ,  강영종 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

ArF Excimer Laser Lithography

Masa ,  u Sasago

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Non-shrinkable photoresists based on camphor for ArF lithography

김진백 ,  오태환 ,  허윤희

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2004 .04

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Chemically amplified silicon-containing cycloaliphatic photoresists : their synthesis and application to 193-nm lithography

김진백 ,  이재준 ,  이관구

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound

손민석 ,  강영종 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

Synthesis of ArF photoresist by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization

손해성 ,  차상호 ,  이원기 외 5명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2008 .10

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Oxynitride Films Deposition and Characteristics by Eximer Laser CVD

김창덕 ,  김영호 ,  신상우 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

엑사이머ㆍ레이저의 研究와 應用

李柱熙

전기의세계

1984 .06

전자빔 여기 rare gas halogen eximer 레이저 출력의 불소농도 의존성 ( Dependence on Fluorine Concentration for Output Performance of Electron Beam Excited Rare Gas Halogen Eximer Lasers )

이주희 ,  최부연 ,  류한용

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

Dynamics of ARF regulation that control senescence and cancer

고아람 ,  한수연 ,  송재환

BMB Reports

2016 .01