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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
한문기 (Pusan National University) 서권상 (Pusan National University) 김동현 (Pusan National University) 이호준 (Puasn National Univerity)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제64권 제3호
발행연도
2015.3
수록면
422 - 428 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

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A 2.45GHz microwave plasma source with a linear antenna has been developed for low temperature large scale deposition processing. Microwave power is transmitted through WR340 waveguide and a copper rod, linear antenna, is located in a quartz tube. The power matching is effectively achieved by a linear antenna is located at λ<SUB>g</SUB>/4 or 3λ<SUB>g</SUB>/4 from the end of WR340 waveguide. The Ar plasma was generated along the surface of quartz tube and a clear standing wave pattern with nearly 10cm wavelength was observed at Ar pressure of 200mTorr and 200W input power. The electron density and electron temperature were investigated by using the electrostatic probe. The electron density and electron temperature were highly measured near the surface of quartz tube. Ar plasma density along the quartz tube is mostly uniform despite standing wave set-up and antenna of long length. A uniform temperature was measured at 10~40cm distance from the end quartz tube and 5cm distance from the surface of quartz tube.

목차

Abstract
1. 서론
2. 장치 제작 및 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (11)

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