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저자정보
차주홍 (경상국립대학교) 김상우 (부산대학교) 정성현 (부산대학교) 이호준 (부산대학교)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제72권 제12호
발행연도
2023.12
수록면
1,670 - 1,677 (8page)
DOI
10.5370/KIEE.2023.72.12.1670

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For the purpose of concentrating the plasma density in the deposition area, linear microwave plasma source which is based on circular TE11 wave mode has been developed. As the shape of a circular waveguide, it is filled with high permittivity dielectric. Microwave power at 2.45 ㎓ is transferred to the plasma through the continuous cylindrical slotted line antenna. It shows that the electron density in the deposition area is higher than that of the conventional quasi coaxial TEM plasma sources. However, due to the short wavelength compared to the equipment size, it has a non-uniform electric field distribution. In order to improve the uniformity problem, this research conducted the 3-D fluid model analysis based on linear microwave plasma source using Ar gas along the slot antenna thickness and process pressure. It was observed that the spatial uniformity of electron increases when the slot antenna thickness is optimized to 3㎜, and the power transfer rate to the plasma is increased at 300mTorr.
#Plasma fluid simulation #PECVD #Microwave plasma #Linear MWP

목차

Abstract
1. 서론
2. 시뮬레이션 구성 및 방법
3. 시뮬레이션 결과 및 고찰
3. 결론
References

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