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한국신재생에너지학회 한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집 한국신재생에너지학회 2010년도 춘계학술대회 초록집
발행연도
2010.6
수록면
66 - 66 (1page)

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Microcrystalline silicon at low temperatures has been developed using plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). It has been found that energetically positive ion and atomic hydrogen collision on to growing surface have important effects on increasing growth rate, and atomic hydrogen density is necessary for the increasing growth rate correspondingly, while keeping ion bombardment is less level. Since the plasma potential is determin ... 전체 초록 보기
#Microcrystalline-Si:H solar cell #High presure #High growth rate #Crystallinity

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