재산화된 질화 산화막의 전하 포획 특성 연구 ( A Study on the Charge Trapping Properties of ONO ( Oxide Nitride Oxide ) Dielectric Film )

이종순 ,  윤석범 ,  박광균 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

재산화된 질화산화막의 전하포획 특성 ( The Charge Trapping Properties of ONO Dielectric Films )

박광균 ,  오환술 ,  김봉렬

전자공학회논문지-A

1992 .08

도핑한 산화막 및 질화막의 확산특성 ( Diffusion Characterization of Doped Oxide and Nitride Film )

이종덕 ,  김원찬 ,  민홍식 외 1명

전자공학회지

1985 .03

기억 소자 응용을 위한 재산화된 산화 질화막의 I-V 특성 ( I-V Characteristics of the Reoxided Nitrided Oxides for the Application of Memory Devices )

손문회 ,  양광선 ,  박훈수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

기억 소자 응용을 위한 재산화된 산화 질화막의 C-V 특성 ( C-V Characteristics of the Reoxided Nitrided Oxides for the Application of Memory Devices )

양광선 ,  박훈수 ,  김봉열 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

질화처리의 기초와 질화계처리

이준연

열처리공학회지

2008 .01

얇은 열산화-질화막의 특성평가 ( Evaluation of Characteristics of Oxidized Thin LPCVD-Si3N4 Film )

구경완 ,  조성길 ,  홍봉식

전자공학회논문지-A

1992 .09

플라즈마 이온질화 공정온도에 따른 스테인리스강 질화층의 표면 특성

임경민 ,  김혜민 ,  이승효 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2012 .11

Wet 게이트 산화막과 Nitride 산화막 소자의 특성에 관한 연구

이용희 ,  최영규 ,  류기한 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1999 .06

Field Plate 구조의 표면 포텐셜과 항복전압의 결정 및 계면전하의 영향

鄭相九 ,  韓承燁

전기학회논문지

1996 .01

정전류 스트레스 하에서 게이트 산화막의 항복 특성 예측 ( Prediction of Gate Oxide Breakdown under Constant Current Stresses )

정태식 ,  최우영 ,  이상돈 외 3명

전자공학회논문지-A

1996 .07

열처리 전후의 질화막에 대한 습식산화의 효과

윤병문 ,  최덕균

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

재산화된 질화 산화막을 게이트 절연막으로 사용한 MOSFET의 특성 ( The Characteristics of MOSFET with Reoxidized Nitrided Oxide Gate Dielectrics )

양광선 ,  박훈수 ,  김봉렬

전자공학회논문지-A

1991 .09

The Influence of Ion Implantation Damage on the Off-State Leakage Characteristics of n-MOSDETs with Ultrathin Oxide, Nitrided-Oxide and Re-Oxidized Nitrided-Oxide Gate Dielectrics

S. Fleische ,  P. T. Lai ,  Y. C. Cheng

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1993 .01

AISI 304 스테인레스 강의 이온질화에 의한 질화층의 생성 상과 부식특성

신동훈 ,  최운 ,  이재호 외 2명

한국표면공학회지

1998 .02

실리콘 산화막의 열적질화와 그 MOS특성에 미치는 영향

이정희 ,  이종현 ,  손병기

대한전자공학회 학술대회

1983 .01

포스트 플라즈마를 이용한 질화의 질화층 형성에 미치는 전처리의 영향에 대한 연구

문경일 ,  변상모 ,  조용기 외 2명

열처리공학회지

2005 .01

Gate Oxide Thickness Dependence of Hot Carrier Degradation in n- and p-MOSFET's with NO-nitrided Gate Oxide under DC and AC Stresses

金正圭

전기학회논문지

1998 .03

플라즈마 질화 기술과 그 응용분야에 대한 소개

문경일 ,  변철웅

대한용접학회 특별강연 및 학술발표대회 개요집

2010 .11