ECR 플라즈마를 이용한 Cu 박막의 건식 식각특성에 관한 연구

이성권 ,  이원종 ,  천성순

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

ECR 플라즈마 방법에 의한 SiO2 박막 제조에 관한 연구 ( A Study on the Fabrication of SiO2 Films by ECR Plasma Method )

이현 ,  강문상 ,  구용서 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

ECR 플라즈마 방법에 SiO₂ 박막 제조에 관한 연구

이현 ,  강문상 ,  구용서 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

ECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착

송선규 ,  장홍영

한국표면공학회지

1990 .12

ECR 플라즈마에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Thin Films Formed by ECR Plasma )

구본영 ,  전유찬 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .10

ECR plasma를 이용한 실리콘 산화 박막 성장 및 특성연구

안명환 ,  윤창주 ,  이기방 외 9명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

ECR 산소 플라즈마를 이용한 저온 열산화 ( Low Temperature Thermal Oxidation using ECR Oxygen Plasma )

이정열 ,  강석원 ,  이진우 외 2명

전자공학회논문지-A

1995 .03

이온에너지분석에 의한 ECR 플라즈마의 특성및 식각특성 연구

이호준 ,  이석현 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

이온에너지분석에 의한 Ecr 플라즈마의 특성 및 식각특성 연구 ( A Study on the Properties of Ecr Plasma and Its Etching Characteristics by Ion Energy Analysis )

이호준 ,  이석현 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

ECR 플라즈마를 이용한 반도체 공정기술

박성호 ,  강봉구

[ETRI] 전자통신동향분석

1988 .06

ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향

金正浩 ,  李昈駿 ,  李晳賢 외 1명

전기학회논문지

1993 .04

초고진공 전자공명 플라즈마를 이용한 실리콘 기판표면 세정화 ( Si Wafer Surface Cleaning by UHV ECR Plasma )

황석희 ,  태홍식 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1992 .11

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성 ( The Deposition Condition and Optical Characteristics of A-Si : H Films Deposited By ECR CVD )

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Compact ECR plasma 장치의 제작 및 특성 연구 ( Study on the Fabrication and Characterization of Compact ECR Plasma System )

윤민희 ,  박원일 ,  남기석 외 1명

전자공학회논문지-A

1994 .04

이온 분석기에 의한 ECR플라즈마의 특성 분석 및 실리콘 식각에 관한 연구

李晳賢 ,  李昈駿 ,  黃琪雄

전기학회논문지

1992 .05

ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 변수가 식각 특성에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Parameters on Etch Characteristics in ECR Etcher )

김정호 ,  이호준 ,  이석현 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

ECR의 원리를 이용한 플라즈마 가열장치에 대한 연구

김원섭

대한전기학회 학술대회 논문집

2002 .07