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이동석 (삼성전자공과대학교) 김찬경 (삼성전자공과대학교) 정주성 (삼성전자) 한동경 (삼성전자) 홍종화 (삼성전자) 김정환 (삼성전자) 김정호 (삼성전자) 이용준 (삼성전자) 이동한 (삼성전자)
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 2008년도 SOC 학술대회
발행연도
2008.5
수록면
184 - 187 (4page)

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현재의 반도체 산업은 나날이 발전해 가고 있으며, wafer의 design rule도 60㎚ 급의 제품을 생산하고 있는 상황이다. Photo lithography 공정에서 SCANNER와 STEPPER 설비를 이용하여 미세 pattern을 노광(exposure)하게 되는데, 미세 pattern에 따라 다양한 원인으로 misalign이 발생하게 된다. 이에 wafer 재작업 비용(Wafer Rework Cost)이 증가함에 따라 이를 개선하기 위한 노력의 필요성이 요구되고 있다. 본 논문에서는 Scan Direction Dependency Data Delay Time Optimization에 의한 품질 향상 연구 및 대책 방법을 제안하고자 한다.
#SDD (Scan Direction Dependency) #DDT (Data Delay Time) #Lithography #ArF #misalign #overlay

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 결론
Ⅳ. 참고 문헌

참고문헌 (0)

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