Effect of deposition temperature and thickness on surface properties of ALD TiO₂ films

장영문 ,  양병찬 ,  신정우 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

원자층 증착법을 이용한 Al₂O₃/TiO₂ 보호막의 수분 보호 특성

권태석 ,  문연건 ,  김웅선 외 6명

Applied Science and Convergence Technology

2010 .11

Photocatalytic activities and surface properties of e-beam treated carbon paper deposited TiO₂ using Atomic Layer Deposition (ALD)

Myoung Joo Kim ,  Hyun Ook Seo ,  Yuan Luo 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Fabrication of dense Al2O3 thin films using UV-enhanced ALD at room temperature

윤관혁 ,  성명모

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .08

UV - enhanced Atomic Layer Deposition(ALD) of TiO₂Thin Films

권용준 ,  장영진 ,  성명모

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .08

커버글라스 기판 위 ALD 성장시킨 TiO₂ 박막의 질화 과정에 따른 물리적 특성의 변화

이윤상 ,  권오성 ,  김유권

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

자외선 활성화 원자층 성장 기술을 이용한 상온에서 TiO₂ 박막의 제조

이병훈 ,  성명모

Applied Science and Convergence Technology

2010 .03

Non-volatile Memory Behaviors of Al₂O₃/Cu/Al₂O₃ Multi-layers prepared by ALD

Byung Kook Lee ,  Jun Young Lee ,  Won Mook Chae 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Water vapor permeation properties of Al₂O₃/TiO₂ passivation layer on a poly (ether sulfon) substrate

권태석 ,  문연건 ,  김웅선 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

The Al₂O₃ Passivation Mechanism for c-Si Surface Deposited by ALD Using O₃ Oxidant

조영준 ,  장효식

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .08

Necessity and effects of Thermal Blocking Liner for ECR plasma

권성용 ,  장진녕 ,  홍문표

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Influence of TiO₂ Thin Film Thickness and Humidity on Toluene Adsorption and Desorption Behavior of Nanoporous TiO₂/SiO₂ Prepared by Atomic Layer Deposition (ALD)

Chae Won Sim ,  Hyun Ook Seo ,  Kwang-Dae Kim 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

새로운 Al 선구 물질을 이용한 Al₂O₃박막의 ALD 성장

조원태 ,  성기환 ,  이선숙 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

UV-enhanced Atomic Layer Deposition of Al2O3 Thin Film

윤관혁 ,  성명모

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .08

Effects of Fe Ions Substitution on the Structure and Magnetic Properties of Ba_0.95Bi_0.05TiO₃

W. Yansen ,  J. Kim ,  B. W. Lee

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2011 .06

Preparation of Al₂O₃/NiO/Al₂O₃ Multi-layer Films for Nano-Floating Gate Memory by ALD

조원태 ,  이선숙 ,  안기석 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

Unusual ALD Behaviors in Functional Oxide Films for Semiconductor Memories

Cheol Seong Hwang

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .08

비행시간형 직층돌 이온산란 분광법을 사용한 MgO(001) 면에 성장된 TiO막의 구조해석

황연 ,  이태근 ,  박병규

한국결정학회지

2002 .01

Characterization of Al2O3 Thin Film Encasulation by Plasma Assisted Spatial ALD Process for Organic Light Emitting Diodes

Sang Heon Yong ,  Sung Min Cho ,  Ho Kyoon Chung 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .02

Degradation of gas-phase toluene by TiO₂ loaded on carbon fibers using Atomic Layer Deposition (ALD) under UV irradiation

Yuan Luo ,  Myoung Joo Kim ,  Hyun Ook Seo 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02