Non-volatile Memory Behaviors of Al₂O₃/Cu/Al₂O₃ Multi-layers prepared by ALD

Byung Kook Lee ,  Jun Young Lee ,  Won Mook Chae 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Fabrication of dense Al2O3 thin films using UV-enhanced ALD at room temperature

윤관혁 ,  성명모

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .08

CO oxidation catalyzed by NiO/mesoporous Al₂O₃

Sang Wook Han ,  Dae Han Kim ,  Eun Ji Pa 외 6명

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2015 .02

UV-enhanced Atomic Layer Deposition of Al2O3 Thin Film

윤관혁 ,  성명모

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .08

새로운 Al 선구 물질을 이용한 Al₂O₃박막의 ALD 성장

조원태 ,  성기환 ,  이선숙 외 3명

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2003 .02

Fabrication and Characterization of nano-floating gate memory with Au nano-particles

Min Seung Lee ,  Dong Uk Lee ,  Jae-Hoon Kim 외 3명

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2006 .08

ALD법으로 제조된 Al₂O₃막의 유전적 특성

김재범 ,  권덕렬 ,  오기영 외 1명

Applied Science and Convergence Technology

2002 .09

ALD Growth of NiO thin films using Ni(DMAMP)₂And H₂O

조원태 ,  김민찬 ,  안기석 외 4명

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2004 .02

Memory Characteristics of High Density Self-assembled FePt Nano-dots Floating Gate with High-k Al₂O₃ Blocking Oxide

Gae Hun Lee ,  Jung Min Lee ,  Hyung Jun Yang 외 2명

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2012 .02

The Effects of Deposition Rates on Exchange Coupling and Magnetoresistance in NiO Spin - Valve Films

D. G. Hwang ,  C. M. Pa ,  k 외 2명

Journal of Magnetics

1997 .12

Development of High-Efficient Organic Solar Cell With TiO₂/NiO Hole-Collecting Layers UsingAtomic Layer Deposition

Hyun Ook Seo ,  Kwang-Dae Kim ,  Sun-Young Pa 외 4명

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2013 .02

Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films

Woojin Jeon ,  Byoungdeog Choi

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2018 .08

Electrical properties of floating gate memory devices dependent on the thickness of tunneling layer

O. H. Gwon ,  J. Y. Kim ,  S . J. Kang 외 1명

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2019 .08

Nano-floating gate memory using size-controlled Si nanocrystal embedded silicon nitride trap layer

박군호 ,  허철 ,  성건용 외 1명

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2010 .02

Characterization of Al2O3 Thin Film Encasulation by Plasma Assisted Spatial ALD Process for Organic Light Emitting Diodes

Sang Heon Yong ,  Sung Min Cho ,  Ho Kyoon Chung 외 1명

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2014 .02

마그네트론 스퍼터링을 이용한 Al과 Al-Si 박막의 제조 및 특성

박혜선 ,  정재인 ,  양지훈 외 2명

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2011 .08

Fabrication of top gate Graphene Transistor with Atomic Layer Deposited Al₂O₃

P ,  anav Kalode ,  성명모

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2013 .08

Reduction in volume contraction of amorphous-Al₂O₃ by advanced ALD technique

Euijoon YOON ,  Hye Jin LIM ,  Jeonghwan JANG 외 2명

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2016 .08

Unusual ALD Behaviors in Functional Oxide Films for Semiconductor Memories

Cheol Seong Hwang

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2013 .08