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Transparent Thin Film Transistor using Al₂O₃/HfO₂ as Gate Insulator Layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Electrical properties of solution processed HfO₂ gate dielectrics at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Electric structure and thermal stability of HfO₂ - Al₂O₃ (HfAlO) film for gate insulator
한국진공학회 학술발표회초록집
2005 .02
Characteristics of HfO2-Al2O3 Gate insulator films for thin Film Transistors by Pulsed Laser Deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
OTFT용 용액공정의 에틸렌-브리지드 실세스퀴옥산 게이트 절연체
조선자연과학논문집
2010 .01
Plasma 처리한 유기 절연층을 갖는 유기 박막 트랜지스터의 전기적 특성 연구
Applied Science and Convergence Technology
2004 .09
Properties of HfSixOy/HfO₂ film as a various Annealing Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Improvement anti-pollution properties of electrical insulator by using a functional film
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Improvement of Thin Film Characteristics by Controlling Nitrogen Contents Ratio of Silicon Oxynitride Gate Insulator Layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .08
Electrical and structural properties of HfO₂ deposited by r.f magnetron sputter
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
DC and RF Characteristics of HfO₂ in Metal-Insulator-Metal Capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .02
Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Structural and electrical characterization of CeO₂/HfO₂ as a gate dielectric deposited by r.f magnetron sputter
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
A study of MOS characteristics of reoxidized HfO₂ thin film for gate oxide applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .07
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
RF Sputtering의 증착 조건에 따른 HfO₂ 박막의 Nanocrystal에 의한 Nano-Mechanics 특성 연구
Applied Science and Convergence Technology
2012 .09
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
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