Slit Wafer Etching Process for Fine Pitch Probe Unit

한명수 ,  박일몽 ,  한석만 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .08

Probe Pitch에 따른 Si 식각 특성 연구

한석만 ,  신재철 ,  고항주 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .08

Si Deep Etching Process Study for Fine Pitch Probe Unit

한명수 ,  박일몽 ,  한석만 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

MEMS Probe Unit을 위한 마이크로 Slit 에칭 공정

한명수 ,  박창모 ,  신광수 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Si Deep Etching Process for MEMS Probe Card and Unit

한명수 ,  안수창 ,  김장현

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Study on etching-shape of ZnO Film by wet-chemical etching

Dong Geun Yoo ,  Myoung Hwa Kim ,  Seong Hun Jeong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

Plasma Dry Etching 방법에 의한 Wafer Backside Etch 특성 평가

한영기 ,  서영수 ,  유재하 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Electrochemical etching technique: Comparison of tungsten probe with controllable tip probe by using two solutions NaoH and KOH.

Bishwa Chand ,  a Adhika ,  i 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Selective Etching of Magnetic Layer Using CO/NH₃ in an ICP Etching System

J. Y. Pa ,  k ,  S.-K Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

ETCHING TIME DEPENDENCE OF MAGNETIC PROPERTIES IN ONE SIDE ETCHED Co - BASED RIBBON

Lan Jin ,  CheolGi Kim ,  SeokSoo Yoon 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2005 .06

Molecular structure effects of the pitches on preparation of activated carbon fibers from electrospinning

Kim ,  Bo-Hye ,  Wazi 외 8명

Carbon letters

2011 .01

원자층 식각기술

염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma

Kim ,  Gwang-Beom ,  Hong 외 1명

동굴

2007 .01

Capacitively Coupled Plasma Source를 이용한 Etcher의 상부 전극 온도 변화에 따른 Etch 특성 변화 개선

신한수 ,  노용한 ,  이내응

Applied Science and Convergence Technology

2011 .09

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

플라즈마 식각 공정에서의 미세구조 식각에 관한 이론적 연구

이창덕 ,  박상규

Applied Science and Convergence Technology

1994 .03

RIE Damage Remove Etching Process for Solar Cell Surface Texturing Using the TMAH Etching

오정화 ,  공대영 ,  조준환 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

UM 지역모델을 위한 배경오차 산출 및 특성 분석

신현철 ,  이미선 ,  이시우

한국기상학회 학술대회 논문집

2009 .10

Satistical Analysis of SiO₂ Contact Hole Etching in a Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching Reactor

Chunli Liu ,  B. Sh ,  aune

Journal of Magnetics

2010 .09

다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석

이호석 ,  양경채 ,  박성우 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02