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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김태엽 (삼성전자) 선동석 (삼성전자) 이지형 (성균관대학교)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제58권 제12호
발행연도
2009.12
수록면
2,505 - 2,510 (6page)

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Semiconductor processes need measurement to confirm where there are problems in quality after progresses manufacturing process. This paper suggests equipment and automatic measure sampling method that control monitoring ratio according to change point occurrence availability of process that is not measure method by the existent simple ratio rate. This paper defines measure section as ailment section, metastable section and stability section by change point standard and create statistical model of each section and developed suitable measure rate model by section. As a result, we have accomplished maximum throughput and minimum sampling number that needs to maintain constant level of quality. Proposed method minimizes load of measure process by brings production quality sophistication and decrease of process badness and lowers measure rate in stable section making perception about problem occurrence quick heightening measure rate at change point occurrence.
#Sampling #Auto Measure #Tool/Process Change Point #Capability #OverLoad #Statistical Model

목차

Abstract
1. 서론
2. 계측 샘플링에 대한 요구 사항 분석
3. 자동 계측 샘플링 방안
4. 시스템 구현
5. 시스템 적용결과
6. 결론
참고문헌
저자소개

참고문헌 (7)

참고문헌 신청
1. [단행본] - G. S. May / 2006 / Fundamentals of Semiconductor Manufacturing and Process Control / John Wiley & Sons google schola 2. [학술지(정기간행물)] - R. K. Nurani / 1996 / In‐Line Defect Sampling Methodology in Yield Management: An Integrated Framework / IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 9 (4) : 506 ~ 517 google schola 3. [학술대회논문] - R. Williams / 1999 / Challenging the paradigm of monitor reduction to achieve lower product cost / Proceedings of The 10th Annual IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop google schola 4. [학술대회논문] - R. Babikian / 1998 / Statistical methods for measurement reduction in semiconductor manufacturing / Proceedings of IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop google schola 5. [학술대회논문] - C. Cheng / 2002 / Intelligent Metrology and Control Strategies Applied to Lithography Processes / Proceedings of AEC/APC Symposium XIV google schola

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