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저널정보
대한전기학회 정보 및 제어 논문집 2006 정보 및 제어 심포지엄 논문집
발행연도
2006.4
수록면
108 - 110 (3page)

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A prediction model of charge concentration of silicon nitride (SiN) thin films was constructed by using neural network and genetic algorithm. SIN films were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition and the deposition process was characterized by means of 26-1 fractional factorial experiment. Effect of five training factors on the model pr ... 전체 초록 보기
#Modeling #Neural Network #Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition System #Charge Concentration

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 데이터
3. 결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
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