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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제42권 제4호
발행연도
2009.8
수록면
152 - 156 (5page)

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Electroless plating is influenced by kinds of parameters including concentrations of electrolyte, plating time, temperature and so on. In this study, the Pt thin films were prepared on GaAs substrate by a 2-step electroless plating depending method. The small Pt catalytic particles by using Pt I bath exhibited islands-morphology dispersed throughout the substrate surface at 65℃, as function as a sensitized thin film, and then a thicker Pt film grew upon the sensitized layer by the second Pt Ⅱ bath. As the growth of Pt film is strongly influenced by the plating time and temperature, the plating time of Pt Ⅱ bath varied from 5 min to 40 min at 60~80℃ after Pt I bath at 60~80℃ for 5 min. It is found that the film grows with the increasing plating time and temperature. The resistivity value of Pt deposited layer was characterized to study the growth mechanism of 2-step plating.
#Pt/GaAs #Electroless plating #2-step plating #FESEM #I-V

목차

Abstract
1. Introduction
2. Experimental
3. Results and discussion
4. Conclusions
Acknowledgements
References

참고문헌 (12)

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1. [학술지(정기간행물)] - M. Murakami / 1990 / / Mater. Sci. Rep. 5 : 273 ~ google schola 2. [학술지(정기간행물)] - D. Lamouche / 1986 / / Solid-state Electro. 29 : 625 ~ google schola 3. [학술지(정기간행물)] - H. Chen / 2003 / / Semicond. Sci. Technol. 18 : 620 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - L. Lewis / 2008 / / Appl. Phys. Lett. 92 : 062113-1-3 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - G. Stremsdoerfer / 1990 / / J. Eletrochem. Soc. 137 : 256 ~ google schola

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-581-018640203