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이용수
1. 서론
2. 실험장치 및 방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌
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전자빔의 파라미터에 따른 노광특성 분석
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나노사출성형용 스탬퍼 제작을 위한 Electron beam lithography 패터닝 연구
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Optical Lithography at Low K Factors
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2006 .10
Current Status and Future of Electron Beam Lithography
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전자공학회지
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전자공학회논문지-A
1994 .01
New Developments in 1 : 1 Optical Lithography
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고효율 광학 소자를 위한 전자빔 및 나노임프린트 기술
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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전자빔의 독립 노광 방식을 이용한 마이크로 멀티레벨 렌즈 제작
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2007 .06
저에너지 전자빔 리소그라피 공정용 소형 전자빔 칼럼 개발
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2011 .10
New Approach of Monte Carlo Simulation for Low Energy Electron Beam Lithography
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
Electron-Beam Lithography를 사용한 Sub-0.1㎛ T-Gate 제작에 관한 연구 ( Sub-0.1㎛ T-Gate Fabrication for Monolithic Microwave Integrated Circuits by Electron-Beam Lithography )
대한전자공학회 학술대회
1993 .01
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