마그네트론 스퍼터링 시스템의 방열 성능 향상에 관한 연구

백재상; 김태안; 김윤제

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 백재상 김태안 김윤제

저널정보: 한국유체기계학회 한국유체기계학회 학술대회 논문집 유체기계공업학회 제4회 한국유체공학학술대회 논문집 (제2권)

발행연도: 2006.8

수록면: 1,117 - 1,120 (4page)

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Magnetron Sputtering system is used extensively for thin-film deposition to a wide variety of commercial and scientific purposes, such as making ultra-thin semiconductors, metal films, etc. It plays important role in a coating system. One of the problems to improve the performance of magnetron sputtering system is the enhancement of heat transfer at the source target. High voltage and electric current are furnished to the source target in order to get the uniform deposition. That energy is converted to heat, which must be removed by the efficient cooling system. Otherwise, it may damage the target, magnets, and substrate as well. Therefore, in order to maintain the uniform deposition, the design of effective cooling system is important. The main parameters affecting the cooling performance are the flow path of cooling water, inlet size and flow rate, etc. In this study, the flow characteristics of inside cooling system with various flow paths of cooling water and flow rates are investigated and results are graphically depicted.

#Magnetron Sputtering(마그네트론 스퍼터링) #Direct cooling(직접냉각) #Heat Transfer(열전달) #Fin(핀)

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