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저자정보
J. T. Gudmundsson (Shanghai Jiao Tong University)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 한국표면공학회 2012년도 춘계학술발표회 및 논문집
발행연도
2012.5
수록면
3 - 35 (33page)

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The high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge is a recent addition to plasma based sputtering technology. In HiPIMS, high power is applied to the magnetron target in unipolar pulses at low duty cycle and low repetition frequency while keeping the average power about 2 orders of magnitude lower than the peak power [1]. This results in a high plasma density, and high ionization fraction of the sputtered vapor, which allows better control of the film growth by controlling the energy and direction of the deposition species. This is a significant advantage over conventional dc magnetron sputtering where the sputtered vapor consists mainly of neutral species. The HiPIMS discharge is now an established ionized physical vapor deposition technique [2,3], which is easily scalable and has been successfully introduced into various industrial applications. An overview of the development of the HiPIMS discharge and the underlying mechanisms that dictate the discharge properties is given. The development and properties of the high power pulsed power supply will be discussed, followed by an overview of the measured plasma parameters in the HiPIMS discharge, the electron energy and density, the ion energy, ion flux and plasma composition, and a discussion on the deposition rate. Then a brief overview of the benefits and applications of the HIPIMS technique is given.

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