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이용수
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 요약
참고문헌
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DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd
한국표면공학회지
1996 .12
RF Plasma CVD에 의한 TMDSO/O₂의 합성과 박막의 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1991 .11
RF플라즈마 CVD법에 의한 Diamond합성
대한전기학회 학술대회 논문집
1989 .07
RF magnetron plasma CVD에 의한 DLC 박막의 합성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1994 .10
LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIOx FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR
한국표면공학회지
1996 .12
Effects of Source Gas for Preparation of Carbon Nitride Using Microwave Plasma CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
고주파 플라즈마 CVD에 의한 저 압력에서의 다이아몬드 막의 성장
전기학회논문지 C
2001 .02
RF 플라즈마 CVD에 의한 CH₄-H₂-O₂ 혼합 기체로부터 다이아몬드 박막의 합성
전기학회논문지
1998 .11
RF 플라즈마 기상증착법에 의한 다이아몬드 박막 제조
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .10
FE Properties of Carbon Nitride Prepared by Microwave Plasma CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Synthesis of Carbon Nitride Films by Dual Microwave Plasma Source CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
DC Plasma CVD 법에 의한 다이아몬드의 성장에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1993 .11
Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma CVD Process
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
초경합금의 플라즈마 질화처리에 의한 표면물성 변화
한국표면공학회지
1997 .06
Control of plasma CVD films containing group IV nanoparticles
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
Crystallinity of ZnO Thin Films Prepared by RF Plasma CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
450mm 반도체 CVD 장비 및 300mm F-CVD 공정용 8kW급 주파수 가변형 RF Generator 개발
전력전자학회 학술대회 논문집
2014 .07
XPS STUDY ON SN-DOPED DLC FILMS PREPARED BY RF PLASMA-ENHANCED CVD
한국표면공학회지
1996 .10
PREPARATION OF SILICON OXIDE FILMS WITH HIGH WATER REPELLENCY BY RF PLASMA-ENHANCED CVD
Fabrication and Characterization of Advanced Materials
1995 .01
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