Ion Mass Doping 에 의한 인의 전기적 활성화에 대한 연구

김진호 ,  주승기

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

실리콘 박막에서 이온 질량 도핑에 의해 주입된 인의 전기적 활성화에 관한 연구 ( A Study on the Electrical Activation of Ion Mass Doped Phosphorous on Silicon Films )

김진호 ,  주승기 ,  최덕균

전자공학회논문지-A

1995 .01

열처리 온도에 따른 P-doped ZnO 박막의 구조적 및 전기적 특성

한정우 ,  윤영섭

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

Characteristics of Counter-Doping using ph3 and B2H6 ion Source Gases in Non-Mass Separated ion Doping on Excimer Laser Annealed Poly-Si Film

양준영 ,  최도욱 ,  문대규 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

새로운 Annealing 방법 ( A New Annealing Method )

홍순관 ,  김철주 ,  박선우

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

새로운 AnneaLing 방법

홍순관 ,  박선우 ,  김철주

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

Fabrication of phosphorus doped ZnO thin film using multi-layer structure

강홍성 ,  임성훈 ,  장현우 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

2005 .11

Reverse annealing of boron doped polycrystalline silicon

Jin ,  Beop-Jong ,  Hong 외 11명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2007 .01

Phosphorus-Doped ZnO 나노로드의 열처리 효과

황성환 ,  문경주 ,  이태일 외 1명

한국재료학회지

2013 .01

인이 in-situ로 도핑된 다결정 실리콘의 열처리 온도에 따른 비저항의 변화

김민수 ,  임찬 ,  박영진 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

열처리 온도에 따른 P-doped ZnO 박막의 구조적 및 전기적 특성

한정우 ,  윤영섭

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

PARAMETRIC STUDY ON THE SHEET RESISTANCE OF THE ION IMPLANTED SILICON WAFERS AFTER RAPID THERMAL ANNEALING

Chi Hoon Jun ,  Youn Tae Kim ,  Young Soo Lee 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

이온 질량 주입된 비정질 실리콘의 금속 유도 측면 결정화 거동에 관한 연구

김태경 ,  박철호 ,  이병일 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

급속 열처리 장치를 이용한 실리콘 산화막의 Annealing 효과 ( Effects of Annealing on Silicon Dioxide Using Rapid Thermal Process System )

박현우 ,  장현룡 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

급속 열처리 장치를 이용한 실리콘 산화막의 Annealing 효과

박현우 ,  장현룡 ,  황호정

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

B⁺ 및 BF₂⁺가 이은 주입된 실리콘 웨이피의 annealing 효과

권상직 ,  권오준 ,  정호선

대한전자공학회 학술대회

1985 .06

Rapid thermal annealing effect on the electrical, optical, and structural properties of Ta-doped In₂O₃ films

Hye-Min Lee ,  Sin-Bi Kang ,  Yong-Jin Noh 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Fabrication of Amorphous Silicon p-i-n Solar Cells Using ion Doped n+ -Layer

문병연 ,  최종현 ,  김재각 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

B+ 및 BF2+ 가 이온 주입된 실리콘 웨이퍼의 Annealing 효과 ( Annealing Effect ofr the B+- and BF2+- Implanted Silicon Wafers )

권상직 ,  권오준 ,  정호선

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

소양호에서 인의 존재 형태별 분포에 관하여

김범철 ,  허우명 ,  황길순 외 2명

환경연구

1996 .12